Ti掺杂核壳结构晶态@非晶WO_(3)纳米线复合薄膜的制备与电致变色性能

WO_(3)的结晶程度对其电致变色特性有很大影响,本研究首先使用溶剂热法制备晶态WO_(3)垂直纳米线阵列,随后采用磁控溅射技术在其表面包裹一层Ti掺杂氧化钨(WO_(3)-Ti)非晶态薄膜,从而得到晶态WO_(3)@非晶态WO_(3)-Ti核壳复合阵列结构。通过SEM与TEM可以观察到非晶态薄膜的厚度约为3~7 nm,并且非晶层的沉积并不破坏纳米线阵列结构。相比于纯WO_(3)纳米线,核壳纳米线的吸收峰发生了轻微红移,且XPS检测到复合前后W4f与Ti2p特征峰产生了明显的峰位移动,显示出核壳之间存在着界面交互作用。优化后WO_(3)@WO_(3)-Ti核壳纳米线的响应速度和着色效率分别是纯WO_(3)纳米线的2倍与1.8倍,在可见光和近红外区域都显示出良好的光学对比度,并且具有优异的循环稳定性,经过3000圈循环后对比度保持率可达95.8%。