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光刻胶用底部抗反射涂层研究进展
被引量:
5
1
作者
王宽
刘敬成
+4 位作者
刘仁
穆启道
郑祥飞
纪昌炜
刘晓亚
《影像科学与光化学》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第2期123-135,共13页
随着微电子工业的蓬勃发展,光刻技术向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应、凹缺效应,提高关键尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注。本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层...
随着微电子工业的蓬勃发展,光刻技术向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应、凹缺效应,提高关键尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注。本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层的分类、基本原理、刻蚀工艺以及其发展状况。重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结,尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用研究,最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望。
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关键词
光刻胶
光刻技术
底部抗反射涂层
下载PDF
职称材料
248nm光刻胶用丙烯酸酯共聚物的合成与性能
被引量:
3
2
作者
徐文佳
郑祥飞
+4 位作者
纪昌炜
刘敬成
刘仁
穆启道
刘晓亚
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第11期1-5,共5页
以对乙酰氧基苯乙烯(ASM)、丙烯酸叔丁酯(TBA)、丙烯酸四氢呋喃酯(TA)和2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯(MAM)为单体,偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂,通过自由基聚合制备了不同MAM含量的丙烯酸酯类共聚物P(ASMco-TBA-co-TA-co-MAM)(PATTM),...
以对乙酰氧基苯乙烯(ASM)、丙烯酸叔丁酯(TBA)、丙烯酸四氢呋喃酯(TA)和2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯(MAM)为单体,偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂,通过自由基聚合制备了不同MAM含量的丙烯酸酯类共聚物P(ASMco-TBA-co-TA-co-MAM)(PATTM),加入一定量的甲醇钠和甲醇进行醇解,制得丙烯酸酯类共聚物PATTM-A。用傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱、凝胶渗透色谱、差示扫描量热法等方法对共聚物PATTM和PATTM-A的结构与性能进行了表征;以PATTM-A为基体树脂配制了光刻胶,利用扫描电子显微镜测试了光刻胶分辨率。结果表明,随着MAM含量升高,PATTM-A的相对分子质量下降,玻璃化转变温度升高,耐碱性增强,所制备的光刻胶分辨率可达0.5μm。
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关键词
248nm
共聚物
光刻胶
分辨率
下载PDF
职称材料
题名
光刻胶用底部抗反射涂层研究进展
被引量:
5
1
作者
王宽
刘敬成
刘仁
穆启道
郑祥飞
纪昌炜
刘晓亚
机构
江南大学化学与材料工程学院
苏州瑞红电子化学品有限公司
出处
《影像科学与光化学》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第2期123-135,共13页
基金
国家重大科技专项(2010ZX02304)
江苏省产学研前瞻性联合研究项目(BY2015019-14)
中央高校基本科研业务费专项资金(JUSRP11514)资助
文摘
随着微电子工业的蓬勃发展,光刻技术向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应、凹缺效应,提高关键尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注。本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层的分类、基本原理、刻蚀工艺以及其发展状况。重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结,尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用研究,最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望。
关键词
光刻胶
光刻技术
底部抗反射涂层
Keywords
photoresist
lithography
bottom anti-reflective coating
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
248nm光刻胶用丙烯酸酯共聚物的合成与性能
被引量:
3
2
作者
徐文佳
郑祥飞
纪昌炜
刘敬成
刘仁
穆启道
刘晓亚
机构
江南大学化学与材料工程学院
苏州瑞红电子化学品有限公司
出处
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第11期1-5,共5页
基金
国家重大科技专项(2010ZX02304)
江苏省产学研前瞻性联合研究项目(BY2015019-14)
中央高校基本科研业务费专项资金(JUSRP11514)
文摘
以对乙酰氧基苯乙烯(ASM)、丙烯酸叔丁酯(TBA)、丙烯酸四氢呋喃酯(TA)和2-甲基-2-金刚烷基甲基丙烯酸酯(MAM)为单体,偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂,通过自由基聚合制备了不同MAM含量的丙烯酸酯类共聚物P(ASMco-TBA-co-TA-co-MAM)(PATTM),加入一定量的甲醇钠和甲醇进行醇解,制得丙烯酸酯类共聚物PATTM-A。用傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱、凝胶渗透色谱、差示扫描量热法等方法对共聚物PATTM和PATTM-A的结构与性能进行了表征;以PATTM-A为基体树脂配制了光刻胶,利用扫描电子显微镜测试了光刻胶分辨率。结果表明,随着MAM含量升高,PATTM-A的相对分子质量下降,玻璃化转变温度升高,耐碱性增强,所制备的光刻胶分辨率可达0.5μm。
关键词
248nm
共聚物
光刻胶
分辨率
Keywords
248 nm
copolymer
photoresist
resolution
分类号
TQ325.7 [化学工程—合成树脂塑料工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光刻胶用底部抗反射涂层研究进展
王宽
刘敬成
刘仁
穆启道
郑祥飞
纪昌炜
刘晓亚
《影像科学与光化学》
CAS
CSCD
北大核心
2016
5
下载PDF
职称材料
2
248nm光刻胶用丙烯酸酯共聚物的合成与性能
徐文佳
郑祥飞
纪昌炜
刘敬成
刘仁
穆启道
刘晓亚
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
3
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职称材料
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