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电子束光刻胶成膜树脂研究进展 被引量:2
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作者 李虎 刘敬成 +5 位作者 徐文佳 穆启道 郑祥飞 纪昌玮 刘仁 刘晓亚 《信息记录材料》 2016年第1期1-9,共9页
电子束光刻作为下一代光刻技术(Next Generation Lithography,NGL),以其分辨率高和性能稳定被认为是在22nm节点最具有发展前景的光刻技术之一。本文归纳了电子束光刻胶用成膜树脂,主要分为聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、树枝状聚合物、... 电子束光刻作为下一代光刻技术(Next Generation Lithography,NGL),以其分辨率高和性能稳定被认为是在22nm节点最具有发展前景的光刻技术之一。本文归纳了电子束光刻胶用成膜树脂,主要分为聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、树枝状聚合物、分子玻璃、有机硅及碳材料等应用于电子束光刻的成膜树脂类型,综述了其研究进展,最后对电子束光刻胶未来的发展前景和方向进行了展望。 展开更多
关键词 电子束 光刻胶 成膜树脂 研究进展
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