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电子束光刻胶成膜树脂研究进展
被引量:
2
1
作者
李虎
刘敬成
+5 位作者
徐文佳
穆启道
郑祥飞
纪昌玮
刘仁
刘晓亚
《信息记录材料》
2016年第1期1-9,共9页
电子束光刻作为下一代光刻技术(Next Generation Lithography,NGL),以其分辨率高和性能稳定被认为是在22nm节点最具有发展前景的光刻技术之一。本文归纳了电子束光刻胶用成膜树脂,主要分为聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、树枝状聚合物、...
电子束光刻作为下一代光刻技术(Next Generation Lithography,NGL),以其分辨率高和性能稳定被认为是在22nm节点最具有发展前景的光刻技术之一。本文归纳了电子束光刻胶用成膜树脂,主要分为聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、树枝状聚合物、分子玻璃、有机硅及碳材料等应用于电子束光刻的成膜树脂类型,综述了其研究进展,最后对电子束光刻胶未来的发展前景和方向进行了展望。
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关键词
电子束
光刻胶
成膜树脂
研究进展
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职称材料
题名
电子束光刻胶成膜树脂研究进展
被引量:
2
1
作者
李虎
刘敬成
徐文佳
穆启道
郑祥飞
纪昌玮
刘仁
刘晓亚
机构
江南大学化学与材料工程学院
苏州瑞红电子化学品有限公司
出处
《信息记录材料》
2016年第1期1-9,共9页
基金
江苏省产学研前瞻性联合研究项目(No.BY2015019-14)
国家重大科技专项(No.2010ZX02304)
江苏省普通高校学术学位研究生科研创新计划(No.KYLX_1127)的资助
文摘
电子束光刻作为下一代光刻技术(Next Generation Lithography,NGL),以其分辨率高和性能稳定被认为是在22nm节点最具有发展前景的光刻技术之一。本文归纳了电子束光刻胶用成膜树脂,主要分为聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、树枝状聚合物、分子玻璃、有机硅及碳材料等应用于电子束光刻的成膜树脂类型,综述了其研究进展,最后对电子束光刻胶未来的发展前景和方向进行了展望。
关键词
电子束
光刻胶
成膜树脂
研究进展
Keywords
Electron beam lithography
Photoresist
Matrix resin
Research progress
分类号
TQ32 [化学工程—合成树脂塑料工业]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电子束光刻胶成膜树脂研究进展
李虎
刘敬成
徐文佳
穆启道
郑祥飞
纪昌玮
刘仁
刘晓亚
《信息记录材料》
2016
2
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职称材料
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