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电镀技术在凸点制备工艺中的应用 被引量:11
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作者 罗驰 练东 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期467-472,共6页
简要回顾了微电子封装的发展历程;描述了FC、BGA、CSP以及WLP的基本概念;归纳了凸点类型以及各种凸点的不同用途;着重介绍了电镀金、金锡、锡铅、锡银和化学镀镍凸点的工艺过程,最后简单介绍了制备凸点的电镀设备。
关键词 微电子封装 芯片级封装 圆片级封装 电镀 凸点制备
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