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柠檬醛对黄曲霉质膜物理损伤机制的研究 被引量:11
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作者 罗 曼 蒋立科 邹国林 《武汉大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期217-222,共6页
通过反射干涉对比显微技术和快速图像分析技术,捕获细胞质膜外光晕变化和细胞周边边缘激发变化的信息,并采用闪烁本征模式分解测定柠檬醛作用于黄曲霉质膜前后各模式(m=0,1,2)所对应的平均平方振幅<δn2m>、剪切弹性μ和弹性弯... 通过反射干涉对比显微技术和快速图像分析技术,捕获细胞质膜外光晕变化和细胞周边边缘激发变化的信息,并采用闪烁本征模式分解测定柠檬醛作用于黄曲霉质膜前后各模式(m=0,1,2)所对应的平均平方振幅<δn2m>、剪切弹性μ和弹性弯曲模量Kc,与理论模式光谱相比,研究柠檬醛损伤质膜的物理机制.结果表明,m=1的平动模式主导了光晕波谱,其平均平方振幅呈双指数衰变,该模式几乎与剪切弹性无关,即μ=0;弹性弯曲模量Kc的最小和最大值分别为9.45×10-18J和5.43×10-17J,与柠檬醛的浓度成正相关性.揭示该醛对黄曲霉质膜的损伤,除改变膜的选择通透性和电导率外,同时使质膜平动模式的平均平方振幅呈双指数衰变,弹性弯曲模量Kc增加,从而降低膜伸缩的弹性. 展开更多
关键词 物理损伤机制 柠檬醛 黄曲霉质膜 反射干涉对比显微镜 本征模式分解 快速图像分析技术 通透性 电导率
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