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题名激光诱导化学液相沉积Fe膜的研究
被引量:2
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作者
侯占杰
唐星
罗穆伟
王振
李运波
朱玉斌
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机构
上海大学材料科学与工程学院电子信息系
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出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第1期136-140,共5页
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文摘
为了沉积出表面平整、尺寸精确、沉积区域具有可选择性的Fe膜,采用YAG固体激光器,以Fe(CO)5为液相前驱体,利用一定厚度的石英片减少副产物,在激光功率密度为1.0×106W/cm2、激光频率为2.5k Hz、激光扫描速率为300mm/s、激光重复扫描次数为200次的条件下,沉积出表面平整性较好、并且具有一定厚度的Fe沉积层。通过测试分析发现,沉积层表面质量受激光功率密度影响较大;激光功率密度是影响到沉积层能否沉积以及沉积厚度的重要参量。结果表明,通过激光诱导,以Fe(CO)5为前驱体,可以实现铜表面的Fe膜的沉积。
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关键词
激光技术
化学液相沉积
副产物
激光功率密度
沉积层厚度
Fe(CO)5
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Keywords
laser technique
chemical liquid deposition
byproduct
laser power density
deposition layer thickness
Fe( CO) 5
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分类号
O644.18
[理学—物理化学]
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题名钨铜基板上氮化铝薄膜的沉积
被引量:2
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作者
王振
罗穆伟
姚俊涛
丁志春
朱玉斌
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机构
上海大学材料科学与工程学院
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出处
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
2016年第2期130-133,共4页
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文摘
采用直流反应磁控溅射的技术,在钨铜基片上沉积了AlN薄膜,通过X射线衍射、扫描电镜及能量色散能谱仪和电流电压测试仪对不同条件下制备的AlN薄膜的结构、形貌和电阻率进行了表征。结果表明,在一定范围内增加功率可以显著改善氮化铝结晶特性,在300 W时,氮化铝薄膜表现为比较明显的(100)择优取向,沉积速度达5μm/h;退火处理可以改善薄膜的结晶性,同时提高薄膜的电阻率;SEM分析表明,在300 W时,钨铜衬底上氮化铝比较均匀,较大钨颗粒已被覆盖,但致密性需要进一步提高。
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关键词
反应磁控溅射
ALN薄膜
钨铜基板
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Keywords
reactive magnetron sputtering
AlN film
tungsten copper substrate
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分类号
TB34
[一般工业技术—材料科学与工程]
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