气离溅射离子镀制氮化钛

本文详细介绍了气体离子源增强磁控溅射 (气离溅射 )反应离子镀膜技术和系统配置。特别是首次提出空分气离溅射的新概念 ,实现了磁控溅射金属镀膜过程和气体离子轰击化学反应过程在真空室内空间上的分离 ,从而保证空分气离溅射反应离子镀膜过程的长时间稳定性、重复性和一致性。当磁控溅射源采用中频电源驱动、最新开发的气体离子源采用脉冲直流电源后 ,实现了最佳的设备组合 ,可镀制出高品质的TiN膜层。

离子源复合真空镀膜成套装备、工艺及应用

随着我国加工制造业的发展，对高性能薄膜的需求与日剧增。我国在真空镀膜行业，目前更多的应用都集中在装饰方面，对能有效地提高关键部件使用寿命机械功能薄膜的制备设备、工艺及应用研究方面还远远落后于国外先进水平。同时，装饰镀方面也逐渐向耐磨和装饰双重功能的方向发展，之前的离子镀装备已出现不能满足高档装饰镀要求的问题。为此，广州有色金属研究院联合北京丹普表面技术有限公司进行离子源复合真空镀膜装备、工艺及应用的研究，以期提高我国装备制造业的技术水平和促进我国真空离子镀的技术发展。