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极紫外光刻材料研究进展 被引量:5
1
作者 耿永友 邓常猛 吴谊群 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第6期1850-1856,共7页
极紫外光刻是微电子领域有望用于下一代线宽为22nm及以下节点的商用投影光刻技术,光刻材料的性能与工艺是其关键技术之一。为我国开展极紫外光刻材料研究提供参考,综述了最近几年来文献报道的研究成果,介绍了极紫外光刻技术发展历程、... 极紫外光刻是微电子领域有望用于下一代线宽为22nm及以下节点的商用投影光刻技术,光刻材料的性能与工艺是其关键技术之一。为我国开展极紫外光刻材料研究提供参考,综述了最近几年来文献报道的研究成果,介绍了极紫外光刻技术发展历程、现状、光刻特点及对光刻材料的基本要求,总结了极紫外光刻材料的研究领域和具体分类,着重阐述了主要光刻材料的组成、光刻原理,光刻性能所达到的水平和存在的主要问题,最后探讨了极紫外光刻材料未来的主要研究方向。 展开更多
关键词 极紫外光刻 极紫外光刻材料 极紫外光刻性能
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光盘光固化复制工艺中玻璃基片表面改性 被引量:1
2
作者 耿永友 王豪 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第6期353-355,共3页
测定了光固化膜分别与玻璃基片、金属Ni模的结合力。采用预涂PMMA 底化层、使用α型硅烷偶联剂和SOLGEL法制备衬底三种方法对玻璃基片表面进行改性并作比较,来选择合理的、经济的工艺路线。运用此工艺复制了CD 唱... 测定了光固化膜分别与玻璃基片、金属Ni模的结合力。采用预涂PMMA 底化层、使用α型硅烷偶联剂和SOLGEL法制备衬底三种方法对玻璃基片表面进行改性并作比较,来选择合理的、经济的工艺路线。运用此工艺复制了CD 唱片,并用SEM 展开更多
关键词 光固化复制工艺 玻璃基片 表面改性 光盘
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激光光刻技术的研究与发展 被引量:12
3
作者 邓常猛 耿永友 吴谊群 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第5期1223-1231,共9页
光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体行业的发展和半导体器件的性能。随着半导体工业的发展,集成电路的特征尺寸越来越小,光刻技术将面临新的挑战。分析了激光光刻技术,包括投影式光刻和激光无掩膜光刻技术的研究现... 光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体行业的发展和半导体器件的性能。随着半导体工业的发展,集成电路的特征尺寸越来越小,光刻技术将面临新的挑战。分析了激光光刻技术,包括投影式光刻和激光无掩膜光刻技术的研究现状,着重介绍了极紫外光刻(EUVL)作为下一代光刻技术的发展前景和技术难点、激光无掩膜光刻技术的发展,特别是激光近场扫描光刻、激光干涉光刻、激光非线性光刻等新技术的最新进展及其在高分辨率纳米加工领域的应用前景。 展开更多
关键词 投影式光刻 无掩膜光刻 发展趋势
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AgInSbTe相变薄膜的热刻蚀腐蚀特性
4
作者 李豪 耿永友 吴谊群 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期620-626,共7页
研究了AgInSbTe相变薄膜作为一种新的热刻蚀材料的腐蚀特性。采用射频磁控溅射的方法在室温下制备了非晶态AgInSbTe薄膜,经真空加热退火晶化.以氢氧化钠溶液作为腐蚀剂,研究了退火温度、腐蚀剂浓度、腐蚀时间对晶态、非晶态AgInSbTe薄... 研究了AgInSbTe相变薄膜作为一种新的热刻蚀材料的腐蚀特性。采用射频磁控溅射的方法在室温下制备了非晶态AgInSbTe薄膜,经真空加热退火晶化.以氢氧化钠溶液作为腐蚀剂,研究了退火温度、腐蚀剂浓度、腐蚀时间对晶态、非晶态AgInSbTe薄膜腐蚀特性的影响.结果表明:以非晶态形式存在的沉积态AgInSbTe薄膜在0.001 mol/L氢氧化钠溶液中腐蚀速度小于0.04 nm/min,退火晶化后,薄膜的腐蚀速度大幅度提高,晶态和非晶态薄膜的腐蚀选择比随退火温度的升高而增大.当腐蚀时间为20 min时,经300℃真空退火的晶态AgInSbTe薄膜比相应非晶态的腐蚀速度高45倍以上.腐蚀后薄膜表面质量良好(粗糙度<1 nm,10μm×10μm区域).并对AgInSbTe相变薄膜的腐蚀机理进行了讨论. 展开更多
关键词 AgInSbTe相变薄膜 无机热刻蚀材料 腐蚀特性
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用于蓝光可录存储的无机材料研究进展 被引量:1
5
作者 周莹 耿永友 顾冬红 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期778-782,共5页
蓝光存储是信息存储领域发展的一个重要方向。用于蓝光存储的可录型光盘,由于其巨大的商业价值,将是今后研究的热点。本文总结了近几年来国内外文献报道的适用于蓝光可录存储的无机材料的最新研究成果,详细阐述了用于蓝光可录存储的无... 蓝光存储是信息存储领域发展的一个重要方向。用于蓝光存储的可录型光盘,由于其巨大的商业价值,将是今后研究的热点。本文总结了近几年来国内外文献报道的适用于蓝光可录存储的无机材料的最新研究成果,详细阐述了用于蓝光可录存储的无机薄膜的制备方法、无机记录材料的种类及存储原理。最后,对用于蓝光可录存储的无机材料今后的发展前景进行了展望。 展开更多
关键词 蓝光存储 可录光盘 无机记录材料 存储原理
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高密度蓝光存储的写策略
6
作者 周莹 耿永友 顾冬红 《光电技术应用》 2006年第5期13-16,20,共5页
蓝光存储技术被认为是第三代光存储的主流技术.在蓝光存储技术中,由于数据传输速度的提高,特别是在高倍速蓝光光盘中记录数据,需要光盘和刻录机之间非常精密的配合,因此对写策略提出了更高的要求.介绍了用于蓝光存储的写策略的研究现状... 蓝光存储技术被认为是第三代光存储的主流技术.在蓝光存储技术中,由于数据传输速度的提高,特别是在高倍速蓝光光盘中记录数据,需要光盘和刻录机之间非常精密的配合,因此对写策略提出了更高的要求.介绍了用于蓝光存储的写策略的研究现状,并对其发展前景进行了展望. 展开更多
关键词 光存储 蓝光 写策略 BD—RE BD—R
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Enhancement Effect of Patterning Resolution Induced by an Aluminum Thermal Conduction Layer with AgInSbTe as a Laser Thermal Lithography Film 被引量:1
7
作者 LI Hao WANG Rui +2 位作者 GENG Yong-You WU Yi-Qun WEI Jing-Song 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2012年第7期157-159,共3页
We employ an aluminum (Al) film as a thermal conduction layer under the laser thermal lithography AgInSbTe phase-change film to improve the patterning resolution in laser thermal lithography.The patterns were fabricat... We employ an aluminum (Al) film as a thermal conduction layer under the laser thermal lithography AgInSbTe phase-change film to improve the patterning resolution in laser thermal lithography.The patterns were fabricated by laser writing and wet-etching.The laser writing was conducted by a setup where the laser wavelength and the numerical aperture of the converging lens were 405nm and 0.90,respectively.The wet-etching was carried out in a 17wt% ammonium sulfide solution.Experimental results indicate that the patterning resolution enhancement induced by an Al thermal conduction layer is more than 20% compared with that of the samples without an Al thermal conduction layer.The analysis reveals that the resolution-enhancing effect may be due to the changes of heat diffusion directions induced by the Al thermal conduction layer. 展开更多
关键词 LITHOGRAPHY INSB conduction
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Write-Once Medium with Fe-Doped BiOx Thin Films for Blue Laser Recording
8
作者 蒋志 耿永友 顾冬红 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2008年第9期3288-3291,共4页
Fe:BiOx films are fabricated on K9 glass substrates by rf-magnetron sputtering of a BiFeO target under argon atmosphere with increasing sputtering power from 80 to 200 W at room temperature. It is found that the thin... Fe:BiOx films are fabricated on K9 glass substrates by rf-magnetron sputtering of a BiFeO target under argon atmosphere with increasing sputtering power from 80 to 200 W at room temperature. It is found that the thin films grown at the sputtering power of 160 W can be formed at an appropriate deposition rate and have an improved surface morphology. The XPS result reveals that the films investigated are comprised of Bi, Fe and O elements. A typical XRD pattern shows that no phase transition occurs in the films up to 400℃. The results of the blue laser recording test demonstrate that the Fe:BiOx films have good writing sensitivity for blue laser beam (406.7nm) and good stability after reading 10000 times. The recording marks of 200nm or less are obtained. These results indicate that the introduction of Fe into BiOx films can reduce the mark size and improve the stability of the films. 展开更多
关键词 the power-law exponents precipitation durative abrupt precipitation change
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SbOx Thin Films Used for Write-Once Blue Laser Recording
9
作者 周莹 耿永友 +1 位作者 顾冬红 朱青 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2007年第5期1287-1289,共3页
SbOx thin films are deposited by reactive dc-magnetron sputtering from an antimony metal target in Ar+O2 with the relative O2 content 7%. It is found that the as-deposited films can represent a two-component system c... SbOx thin films are deposited by reactive dc-magnetron sputtering from an antimony metal target in Ar+O2 with the relative O2 content 7%. It is found that the as-deposited films can represent a two-component system comprising amorphous Sb and amorphous Sb2 O3. The crystallization of Sb is responsible for the changes of optical properties of the films. The results of the static test show that the SbOx thin films have good writing sensitivity for blue laser beams and the recording marks are very clear and circular. High reflectivity contrast of about 41% is obtained at a writing power 6mW and writing pulse width 300ns. In addition, the films show a good stability after reading 10000 times. 展开更多
关键词 OPTICAL-STORAGE
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偶氮金属镍薄膜的折射率和吸收特性研究 被引量:4
10
作者 耿永友 顾冬红 干福熹 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1091-1094,共4页
偶氮金属镍 (Ni(azo) 2 )是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质。为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数 ,用旋涂法 (Spin- coating)在单晶硅片上制备了 Ni(azo) 2 薄膜。在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了 Ni... 偶氮金属镍 (Ni(azo) 2 )是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质。为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数 ,用旋涂法 (Spin- coating)在单晶硅片上制备了 Ni(azo) 2 薄膜。在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了 Ni(azo) 2 薄膜的椭偏光谱。采用逼近算法获得了 Ni(azo) 2 薄膜在可见光范围内的复折射率、复介电函数、吸收系数和薄膜厚度。分析了 Ni(azo) 2 薄膜可见吸收光谱的形成机理。结果表明在波长 6 5 0 nm处薄膜的折射率为 2 .19,吸收常数为 0 .0 2 3,具有良好的吸收和反射特性 ,显示出作为高密度数字多用光盘 (DVD- R)记录介质的良好应用前景。 展开更多
关键词 薄膜物理学 薄膜光学常数 椭偏光谱 偶氮金属镍螯合物
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菁染料旋涂薄膜的短波长光存储性能研究 被引量:2
11
作者 耿永友 顾冬红 干福熹 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期341-344,共4页
利用旋涂法 (spin coating)制备了一种新的菁染料薄膜 ,并进一步制备成可录型数字多用光盘 (DVD R) ,测试该菁染料溶液和薄膜的吸收光谱 ,薄膜的透过、反射光谱 ,用椭圆偏振光谱仪测试了薄膜光学常数n和k ,发现薄膜在 6 30~ 6 5 0nm波... 利用旋涂法 (spin coating)制备了一种新的菁染料薄膜 ,并进一步制备成可录型数字多用光盘 (DVD R) ,测试该菁染料溶液和薄膜的吸收光谱 ,薄膜的透过、反射光谱 ,用椭圆偏振光谱仪测试了薄膜光学常数n和k ,发现薄膜在 6 30~ 6 5 0nm波段内有良好的吸收和反射特性。在 6 32 8nm光盘动、静态测试装置和 6 5 0nm光盘性能测试仪上测试了以该染料薄膜为记录层介质的DVD R光盘 ,结果表明盘片具有良好的光存储性能。 展开更多
关键词 旋涂法 菁染料薄膜 DVD-R 光存储性能 信息光学
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PMMA光盘基片光致聚合反应复制法工艺研究
12
作者 耿永友 郑锐韬 王豪 《光学技术》 EI CAS CSCD 1998年第6期71-73,共3页
本文通过测量PMMA基片在光致聚合反应法复制过程中的形变和收缩应力,由此对其产生的机理作了一定的理论分析。通过在凝胶化后施加一定的压力能够减小形变和收缩应力。本文不仅描述了采用二阶段加压法工艺复制的CD唱片,还描述了... 本文通过测量PMMA基片在光致聚合反应法复制过程中的形变和收缩应力,由此对其产生的机理作了一定的理论分析。通过在凝胶化后施加一定的压力能够减小形变和收缩应力。本文不仅描述了采用二阶段加压法工艺复制的CD唱片,还描述了用SEM观察复制信息的微观形貌。 展开更多
关键词 光致聚合反应 复制法 工艺 光盘 基片 PMMA
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无机激光热刻蚀材料的研究进展 被引量:5
13
作者 李豪 耿永友 吴谊群 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2011年第1期15-21,共7页
激光热刻蚀技术是近年发展起来的利用激光热刻蚀薄膜的热变化阈值特性突破光学衍射极限进行纳米图形制备的新技术,在亚波长纳米结构器件和高密度光盘母盘制造等领域具有广阔的应用前景。阐述了激光热刻蚀技术的基本原理和特点,以及对激... 激光热刻蚀技术是近年发展起来的利用激光热刻蚀薄膜的热变化阈值特性突破光学衍射极限进行纳米图形制备的新技术,在亚波长纳米结构器件和高密度光盘母盘制造等领域具有广阔的应用前景。阐述了激光热刻蚀技术的基本原理和特点,以及对激光热刻蚀材料性质的要求,综述了相变型激光热刻蚀薄膜材料(包括硫系相变薄膜材料、金属亚氧化物薄膜材料和陶瓷复合薄膜材料)、热分解型激光热刻蚀薄膜材料和化学反应型激光热刻蚀薄膜材料的最新研究进展。分析并总结了无机激光热刻蚀材料的激光热刻蚀机制,在此基础上对无机激光热刻蚀材料的发展趋势和前景进行了探讨。 展开更多
关键词 光数据存储 无机激光热刻蚀材料 激光热刻蚀技术 激光热刻蚀机制
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膜厚对Sb_2Te_3薄膜光学性质的影响 被引量:4
14
作者 张奎 耿永友 +2 位作者 吴谊群 顿爱欢 李豪 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期299-303,共5页
超分辨近场结构光存储技术(Super-RENS)是一种利用功能薄膜结构实现突破光学衍射极限的信息点记录和读取的新技术,作为超分辨光盘结构的掩膜材料是决定其性能的关键。利用透射电子显微镜研究了可作为超分辨光盘掩膜层Sb2Te3薄膜的晶态... 超分辨近场结构光存储技术(Super-RENS)是一种利用功能薄膜结构实现突破光学衍射极限的信息点记录和读取的新技术,作为超分辨光盘结构的掩膜材料是决定其性能的关键。利用透射电子显微镜研究了可作为超分辨光盘掩膜层Sb2Te3薄膜的晶态结构、表面形貌;利用光谱仪和椭偏仪分析了其光学性质随膜厚的变化。结果表明,沉积态Sb2Te3薄膜呈弱晶状态,在一定厚度范围内,其光学性质随膜厚的不同有较大变化。当膜较薄时,其消光系数和折射率随膜厚的增加而减小;当膜厚达到一定值时,其光学常数随膜厚的增加逐渐趋于稳定,即存在膜厚影响临界值。消光系数和折射率的膜厚影响临界值分别在80nm和50nm左右。薄膜的光学性质与膜厚的关系可以用薄膜结构的连续性来解释。 展开更多
关键词 薄膜 超分辨近场结构 Sb2Te3薄膜 光学性质 膜厚 临界值
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Si掺杂Ag基超分辨薄膜读出性能研究 被引量:5
15
作者 赵石磊 耿永友 施宏仁 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期297-302,共6页
超分辨薄膜是一种能够实现突破光学衍射极限的功能薄膜,它在超分辨近场光存储技术中起到至关重要的作用。采用磁控溅射共溅的方式制备了Ag掺杂一定量Si的超分辨复合薄膜,测试了其作为掩膜层的超分辨光盘读出性能,并获得了最佳的薄膜制... 超分辨薄膜是一种能够实现突破光学衍射极限的功能薄膜,它在超分辨近场光存储技术中起到至关重要的作用。采用磁控溅射共溅的方式制备了Ag掺杂一定量Si的超分辨复合薄膜,测试了其作为掩膜层的超分辨光盘读出性能,并获得了最佳的薄膜制备条件,即当Ag溅射功率为55 W,Si为95 W,溅射时间为80s,薄膜厚度为39nm时,超分辨光盘的读出信号载噪比(CNR)最高为28dB。用X射线光电子能谱测量了上述薄膜的组成,用扫描电子显微镜观察了薄膜微区形貌,并用椭圆偏振光谱仪测量了薄膜的光学常数和厚度。超分辨复合薄膜的读出机理可以用Ag的散射型机理解释。光盘在持续读出10万次以后读出信号基本没有下降。 展开更多
关键词 光存储 超分辨薄膜 共溅 载噪比 稳定性
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热致NiO_x薄膜的结构和光学性质变化 被引量:4
16
作者 周莹 耿永友 顾冬红 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期125-129,共5页
利用直流磁控反应溅射技术制备了氧气和氩气的分压比为5∶100的NiOx薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和光谱仪研究了热处理对薄膜的微观结构和光学性质的影响,并对沉积态薄膜的粉末进行了热分析。... 利用直流磁控反应溅射技术制备了氧气和氩气的分压比为5∶100的NiOx薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和光谱仪研究了热处理对薄膜的微观结构和光学性质的影响,并对沉积态薄膜的粉末进行了热分析。沉积态的NiOx薄膜在262℃时开始分解,导致NiOx薄膜的透过率增加和反射率降低。X射线衍射和示差扫描量热曲线(DSC)分析表明,在热处理过程中并无物相的变化,光学性质的变化是由于NiOx薄膜热分解引起薄膜表面形貌发生变化而引起的。通过Kissinger公式计算出热分解所需克服的活化能为230.46kJ/mol,显示出很好的热稳定性。NiOx薄膜的热稳定性和热处理前后在波长为405nm处高的反射率差值,使其很有可能成为可录蓝光光盘的记录介质。 展开更多
关键词 薄膜 光存储 NiOx薄膜 热分析 光学性质 微结构
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用于蓝光(405nm)激光直写的聚乙烯醇/银纳米复合材料薄膜的制备 被引量:3
17
作者 宋晶 耿永友 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期316-323,共8页
利用紫外光诱导还原金属前躯体硝酸银(AgNO3),直接在聚乙烯醇(PVA)薄膜中生长银纳米颗粒,成功制备出PVA/Ag纳米复合材料薄膜。利用紫外-可见吸收光谱分析了银离子浓度、紫外光辐照功率和辐照时间对薄膜光谱的影响趋势。通过优化硝酸银... 利用紫外光诱导还原金属前躯体硝酸银(AgNO3),直接在聚乙烯醇(PVA)薄膜中生长银纳米颗粒,成功制备出PVA/Ag纳米复合材料薄膜。利用紫外-可见吸收光谱分析了银离子浓度、紫外光辐照功率和辐照时间对薄膜光谱的影响趋势。通过优化硝酸银浓度、辐照条件来调节薄膜中银纳米颗粒的尺寸和空间分布密度,成功地将此复合薄膜的等离子共振吸收峰位调节为406nm,并用于蓝光(405nm)激光直写光刻。扫描电子显微镜(SEM)观察表明,该材料中纳米颗粒分布均匀,粒径分布较窄;X射线光电子谱(XPS)证实了合成的纳米颗粒为单质银;原子力显微镜(AFM)分析显示薄膜光刻后获得了表面清晰、光滑、规整的图形。 展开更多
关键词 薄膜 激光直写 纳米复合材料 银纳米颗粒 聚乙烯醇 紫外光辐照
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氧化物记录介质在光存储中的应用及其研究进展
18
作者 蒋志 耿永友 +2 位作者 顾冬红 周莹 翟凤潇 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2007年第8期62-67,共6页
系统总结了用于光存储记录层的氧化物薄膜的存储机理、存储特性以及最新进展,讨论了氧化物掺杂对提高存储性能的影响,指出了氧化物薄膜存在的不足,并探讨了可能的改善途径。在此基础上对存储材料的发展趋势及氧化物材料的研究前景进行... 系统总结了用于光存储记录层的氧化物薄膜的存储机理、存储特性以及最新进展,讨论了氧化物掺杂对提高存储性能的影响,指出了氧化物薄膜存在的不足,并探讨了可能的改善途径。在此基础上对存储材料的发展趋势及氧化物材料的研究前景进行了展望。 展开更多
关键词 光存储 氧化物薄膜 存储材料 记录机理
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In掩膜层超分辨光盘的读出研究
19
作者 张奎 耿永友 施宏仁 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期161-165,共5页
在超分辨光存储技术中,掩膜层材料是决定其性能优劣的关键。In薄膜可以作为掩膜层用来实现超分辨信息点的动态读出。采用直流磁控溅射法制备不同厚度的In薄膜,用台阶仪测量薄膜厚度随时间的变化关系,用原子力显微镜观察不同厚度薄膜样... 在超分辨光存储技术中,掩膜层材料是决定其性能优劣的关键。In薄膜可以作为掩膜层用来实现超分辨信息点的动态读出。采用直流磁控溅射法制备不同厚度的In薄膜,用台阶仪测量薄膜厚度随时间的变化关系,用原子力显微镜观察不同厚度薄膜样品的表面形貌。在预刻有尺寸为390nm信息点的光盘盘基上制备In薄膜,从而形成In掩膜超分辨光盘。利用光盘动态测试仪进行动态读出,最高读出载噪比(CNR)达到26dB。为了进一步分析超分辨动态读出的物理机理,采用变温椭圆偏振光谱仪测量In薄膜在不同温度下的光学常数,得到In薄膜在不同温度下的反射率和吸收系数。分析表明In掩膜超分辨光盘的读出机理符合孔径型超分辨读出模型。 展开更多
关键词 薄膜 超分辨 In掩膜 载噪比
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Novel phthalocyanine thin film for compact disc recordable
20
作者 耿永友 顾冬红 +1 位作者 吴谊群 干福熹 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第2期102-104,共3页
In this paper, the spin-coated thin films of phthalocyanine dye are presented. Absorption spectrum of the thin film shows a comparatively broad absorption in the wavelength range 630 - 770 nm. Optical parameters of th... In this paper, the spin-coated thin films of phthalocyanine dye are presented. Absorption spectrum of the thin film shows a comparatively broad absorption in the wavelength range 630 - 770 nm. Optical parameters of the thin film were measured by a spectroscopic ellipsometer system. 5-in CD-R discs made of this dye exhibit good performance with Yamaha 20-speed recorder. Jitters of land and pit are less than 30 ns, and the 3T-11T's signals show very good quality. This dye is a promising recording medium for CD-R with much higher recording speed. 展开更多
关键词 Dye lasers Optical properties Thin films
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