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基于MoS2/Graphene复合材料的摩擦纳米发电机 被引量:2
1
作者 耿魁伟 徐志平 李徐 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第10期113-119,128,共8页
制备了一种基于MoS2/Graphene复合纳米材料嵌入式电子接收层的摩擦纳米发电机(TENG),研究了不同电子接收层对TENG输出电压响应、频率响应及负载响应等参数的影响,并探讨了相关增强机制。在5 Hz的工作频率下,相比没有电子接收层的TENG,... 制备了一种基于MoS2/Graphene复合纳米材料嵌入式电子接收层的摩擦纳米发电机(TENG),研究了不同电子接收层对TENG输出电压响应、频率响应及负载响应等参数的影响,并探讨了相关增强机制。在5 Hz的工作频率下,相比没有电子接收层的TENG,嵌入电子接收层的TENG的输出电压提升了3~8倍。在最佳外部负载阻抗的情况下,电子接收层为MoS2/Graphene的TENG(TENG-M/G)的最大输出功率是电子接收层为聚酰亚胺膜的TENG(TENG-PI)的23倍。通过分析转移电荷量的差异,探讨了不同电子接收层的TENG输出差异性的原因。为了进一步验证实验结果,制作了掺杂不同PI膜作栅绝缘层的金属-绝缘体-半导体(MIS)器件,通过分析其在1 kHz下的C-V特性曲线,探讨了造成TENG输出差异性的内部机制及MoS2/Graphene复合材料在TENG中的电荷捕获作用。 展开更多
关键词 摩擦纳米发电机 二硫化钼 石墨烯 复合材料 金属-绝缘体-半导体
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超高真空电子束蒸镀Fe/Ru多层膜的结构和磁性
2
作者 耿魁伟 曾飞 +3 位作者 谷宇 李晓伟 宋成 潘峰 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期1833-1837,共5页
采用超高真空电子束蒸镀方法制备了Fe/Ru多层膜,Ru层厚度固定为2 nm,Fe层厚度为0.6~5 nm,研究了Fe层厚度的变化对薄膜结构及其磁性能的影响.Fe层厚度小于5 nm时,受Ru层HCP结构的影响,Fe层生长为六方晶格的亚稳相.多层膜呈现明显的平面... 采用超高真空电子束蒸镀方法制备了Fe/Ru多层膜,Ru层厚度固定为2 nm,Fe层厚度为0.6~5 nm,研究了Fe层厚度的变化对薄膜结构及其磁性能的影响.Fe层厚度小于5 nm时,受Ru层HCP结构的影响,Fe层生长为六方晶格的亚稳相.多层膜呈现明显的平面易磁化特性,并随Fe厚度降低而减弱.Fe的平均原子磁矩和Fe层厚度的倒数存在线性关系,与死层理论预言的结果相一致.实验结果证实,亚稳相六方晶格的Fe具有铁磁性,其平均原子磁矩计算值为1.9μB,略低于BCC Fe,Fe/Ru界面层的死层厚度为0.25 nm. 展开更多
关键词 Fe/Ru多层膜 电子束蒸镀 磁性 死层 亚稳相
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水热蒸汽法制备ZnO纳米棒的研究
3
作者 耿魁伟 杨力 +2 位作者 殷强 王亚茹 罗龙 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期2891-2897,共7页
采用新发展的水热蒸汽法,通过乙二胺蒸汽制备了高长径比的ZnO纳米棒。采用XRD、SEM、PL谱和拉曼光谱对产物进行了表征。结果表明ZnO纳米棒为六方柱形结构,纳米棒整体排列整齐,高度有序。ZnO纳米棒具有高度的取向性,沿c轴择优生长,大部分... 采用新发展的水热蒸汽法,通过乙二胺蒸汽制备了高长径比的ZnO纳米棒。采用XRD、SEM、PL谱和拉曼光谱对产物进行了表征。结果表明ZnO纳米棒为六方柱形结构,纳米棒整体排列整齐,高度有序。ZnO纳米棒具有高度的取向性,沿c轴择优生长,大部分的ZnO纳米棒都垂直于基底。ZnO纳米棒在385nm有一个本征发光峰,在433nm、481nm、520nm之间有明显的缺陷发光峰,可能是由于氧空位和锌空位引起的。在生长温度为150℃的时候,450~550nm之间发光峰强度远大于其他温度,可能是温度太高,生长速度太快,缺陷相对较多。ZnO纳米棒在437.61cm-1处特征峰明显,其峰值较高,结晶度较好,由于衬底存在微小的晶格失配,所以存在压应力。在120℃的生长温度,生长时间为12h下,制备出的ZnO纳米棒长度为24μm,直径为180nm,长径比达到130∶1。 展开更多
关键词 水热蒸汽法 ZNO 纳米棒 乙二胺
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水热法制备TiO_2/ZnO纳米花光阳极及其光电性能
4
作者 耿魁伟 罗龙 +1 位作者 王静 郑祥忠 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第B06期18-22,共5页
采用水热法在TiO_2薄膜上制备ZnO纳米花,通过研究氢氧化钠溶度对ZnO纳米花生长形貌的影响,并调整工艺以优化ZnO纳米花形貌;同时把TiO_2/ZnO复合薄膜光阳极组装成染料敏化太阳能电池,通过测试得出J-V、EIS曲线。结果表明,基于TiO_2/ZnO... 采用水热法在TiO_2薄膜上制备ZnO纳米花,通过研究氢氧化钠溶度对ZnO纳米花生长形貌的影响,并调整工艺以优化ZnO纳米花形貌;同时把TiO_2/ZnO复合薄膜光阳极组装成染料敏化太阳能电池,通过测试得出J-V、EIS曲线。结果表明,基于TiO_2/ZnO复合薄膜染料敏化太阳能电池开路电压0.80 V,短路电流4.65mA/cm^2,转化效率2.32%;其性能优于单一的TiO_2染料敏化太阳能电池。 展开更多
关键词 DSSC TiO2/ZnO 水热法 I-V EIS
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用LambertW函数求解太阳能电池的串联电阻 被引量:6
5
作者 许佳雄 姚若河 耿魁伟 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期42-45,共4页
为准确计算太阳能电池的串联电阻,从太阳能电池单二极管模型的电流-电压特性方程出发,推导出一个用LambertW函数形式表示的串联电阻解析表达式.该表达式仅需将太阳能电池的电流-电压特性曲线和模型参数值代入其中即可求出串联电阻,避免... 为准确计算太阳能电池的串联电阻,从太阳能电池单二极管模型的电流-电压特性方程出发,推导出一个用LambertW函数形式表示的串联电阻解析表达式.该表达式仅需将太阳能电池的电流-电压特性曲线和模型参数值代入其中即可求出串联电阻,避免了通常近似计算方法所引入的误差.不同类型和不同工作条件下太阳能电池串联电阻的计算结果验证了文中计算方法的准确性和实用性. 展开更多
关键词 太阳能电池 串联电阻 LambertW函数 电流-电压特性
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基于扩散模型的ZnO/p-Si异质结伏安特性研究 被引量:1
6
作者 熊超 姚若河 耿魁伟 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期1-6,共6页
为了揭示ZnO/p-Si异质结的导电机理,基于p-n结扩散模型和Anderson扩散模型推导了ZnO/p-Si异质结在理想情况下的伏安特性,并分析了掺杂浓度、工作温度以及能带补偿的影响.结果表明:当正向偏压超过势垒高度时,界面两边多数载流子由耗尽变... 为了揭示ZnO/p-Si异质结的导电机理,基于p-n结扩散模型和Anderson扩散模型推导了ZnO/p-Si异质结在理想情况下的伏安特性,并分析了掺杂浓度、工作温度以及能带补偿的影响.结果表明:当正向偏压超过势垒高度时,界面两边多数载流子由耗尽变为堆积,形成反向势垒,对异质结的正向电流起阻碍作用;当外加正向电压等于内建势垒高度时,伏安特性曲线出现转折点;当外加正向电压超过转折点电压时,电流密度随电压升高而增大的速度减缓;反向饱和电流密度随p-Si受主掺杂浓度的增加和工作温度的降低而减小,但与ZnO的掺杂浓度和导带补偿无关;p-Si和ZnO的掺杂浓度减小、工作温度升高以及导带补偿增大均会引起转折点位置对应的外加正向电压减小. 展开更多
关键词 氧化锌 异质结 伏安特性 内建势垒 扩散模型
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斜离子束辅助沉积对Co_(30)Nb_(70)薄膜结构及其热稳定性的影响 被引量:2
7
作者 丁宇清 曾飞 +2 位作者 谷宇 耿魁伟 潘峰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期61-65,共5页
本文研究了离子束辅助沉积(IBAD)Co30Nb70薄膜过程中离子束入射角对薄膜微结构及热稳定性的影响。实验结果表明,在0°到75°范围内改变离子束入射角均可得到Co30Nb70非晶薄膜,但样品微结构出现变化,观察到多孔和沟槽结构。所有... 本文研究了离子束辅助沉积(IBAD)Co30Nb70薄膜过程中离子束入射角对薄膜微结构及热稳定性的影响。实验结果表明,在0°到75°范围内改变离子束入射角均可得到Co30Nb70非晶薄膜,但样品微结构出现变化,观察到多孔和沟槽结构。所有样品经300℃退火30 min,入射角为45°制备的样品出现强织构bcc亚稳相,其它入射角沉积的样品均保持非晶相。继续将样品在450℃退火30 min,入射角45°沉积的样品中bcc亚稳相消失,溶入非晶相;15°和75°入射沉积的样品开始晶化。分析认为:离子束入射角变化引起的原子混合效应的改变,以及薄膜中的多孔结构对上述变化有重要影响。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 非晶 多孔结构 入射角 热稳定性
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斜离子束辅助沉积对Co_(80)Nb_(20)薄膜结构及磁性能的影响 被引量:1
8
作者 李晓伟 丁宇清 +3 位作者 曾飞 谷宇 耿魁伟 潘峰 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期1827-1832,共6页
采用斜离子束辅助沉积(IBAD)方法制备了Co80Nb20合金薄膜,研究了离子束入射角度对薄膜结构、组织及磁性能的影响。结果表明:当离子束入射角度小于30°时形成fcc亚稳合金薄膜,入射角增大到30°后转变为hcp固溶体;Co80Nb20薄膜均... 采用斜离子束辅助沉积(IBAD)方法制备了Co80Nb20合金薄膜,研究了离子束入射角度对薄膜结构、组织及磁性能的影响。结果表明:当离子束入射角度小于30°时形成fcc亚稳合金薄膜,入射角增大到30°后转变为hcp固溶体;Co80Nb20薄膜均表现出平面易磁化特征,在入射角小于75°时Co80Nb20薄膜矫顽力较小;当离子束入射角度增大到75°后,薄膜在平行膜面方向矫顽力明显增大,而垂直膜面方向矫顽力减小。从理论上讨论了离子束入射角度对原子混合、热峰效应、薄膜内应力及亚稳结构形成的影响。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 入射角
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短沟道金属-氧化物半导体场效应晶体管的散粒噪声模型 被引量:1
9
作者 张梦 姚若河 +1 位作者 刘玉荣 耿魁伟 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第17期192-200,共9页
随着金属-氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件的尺寸进入到纳米量级,器件的噪声机理逐渐开始转变.传统的热噪声与漏源电流模型精度出现下降,散粒噪声成为器件噪声不可忽略的因素.本文通过求解能量平衡方程,推导了短沟道MOSFET器件的... 随着金属-氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件的尺寸进入到纳米量级,器件的噪声机理逐渐开始转变.传统的热噪声与漏源电流模型精度出现下降,散粒噪声成为器件噪声不可忽略的因素.本文通过求解能量平衡方程,推导了短沟道MOSFET器件的沟道电子温度和电子速度表达式,由此建立了漏源电流模型;基于漏源电流模型建立了适用于40 nm以下器件的散粒噪声模型和热噪声模型.研究了n型金属-氧化物半导体场效应晶体管(NMOSFET)器件在不同偏置电压下,器件尺寸对散粒噪声抑制因子和噪声机理的影响.研究表明:已有的热噪声模型与散粒噪声模型的精度随着器件尺寸的减小而下降,导致相应的散粒噪声抑制因子被高估.当NMOSFET器件的尺寸减小到10 nm时,器件的噪声需由热噪声与受抑制的散粒噪声共同表征.本文建立的短沟道器件散粒噪声模型可应用于纳米尺寸NMOSFET器件噪声性能的分析与建模. 展开更多
关键词 散粒噪声 抑制因子 电子温度 短沟道 场效应晶体管
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AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的栅极电容模型 被引量:1
10
作者 刘乃漳 姚若河 耿魁伟 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第21期274-280,共7页
Al Ga N/Ga N高电子迁移率晶体管的栅极电容由本征电容和边缘电容组成.边缘电容分为外部边缘电容和内部边缘电容,内部边缘电容相比外部边缘电容对器件的开关转换特性更为敏感.本文基于内部边缘电容的形成机理,推导了内部边缘电容C_(ifs... Al Ga N/Ga N高电子迁移率晶体管的栅极电容由本征电容和边缘电容组成.边缘电容分为外部边缘电容和内部边缘电容,内部边缘电容相比外部边缘电容对器件的开关转换特性更为敏感.本文基于内部边缘电容的形成机理,推导了内部边缘电容C_(ifs/d)模型,进一步的分析表明,其与器件的栅极偏置强相关;基于WardDutton电荷分配原则推导了相应的本征电容模型,最后结合外部边缘电容得到了完整的栅极电容模型.由于边缘电容是由器件结构产生的寄生电容,仿真结果表明,若不考虑边缘电容的影响,栅源电容的误差可达80%以上,而栅漏电容的误差可达65%以上.因此,在高频开关应用领域,边缘电容对栅极电容的影响不可忽略. 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管 内部边缘电容 栅极电容 模型
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晶硅太阳电池工业生产中制绒工艺与设备设计要点 被引量:7
11
作者 于静 王宇 耿魁伟 《电子工业专用设备》 2010年第4期1-3,35,共4页
针对工业生产单晶硅太阳能电池对绒面的要求,结合中国电子科技集团公司第四十五研究所研制的全自动制绒清洗设备中制绒工艺段的结构设计要点,从制绒工艺的原理、标准、影响制绒工艺的因素等方面进行分析,强调设备与工艺密切结合的重要性。
关键词 制绒工艺 设备 设计要点
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坡莫合金/铜磁性多层膜微观力学性能的研究
12
作者 艾家和 高阳 +2 位作者 耿魁伟 曾飞 潘峰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期42-45,49,共5页
本文用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备了具有不同坡莫合金层厚度的坡莫合金/铜磁性多层膜,并采用纳米力学系统分别以压痕法、划痕法测定了坡莫合金层厚度对多层膜显微硬度、弹性模量以及划痕的临界载荷、宽度和深度等的影响.研究结... 本文用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备了具有不同坡莫合金层厚度的坡莫合金/铜磁性多层膜,并采用纳米力学系统分别以压痕法、划痕法测定了坡莫合金层厚度对多层膜显微硬度、弹性模量以及划痕的临界载荷、宽度和深度等的影响.研究结果表明:在既定的接触深度,多层膜的显微硬度及弹性模量随坡莫合金层厚度变化不大,它们分别约为4.5 GPa和80 GPa,比坡莫合金单层膜的值低而比铜单层膜的值高;坡莫合金层厚度对多层膜微观摩擦学性能有较大的影响:随坡莫合金层厚度减小,特别是当其小于等于1.6 nm时,划痕有较高的临界载荷、较小的宽度和较浅的残余深度;多层膜的划痕临界载荷高于坡莫合金单层膜的值. 展开更多
关键词 坡莫合金 铜磁性多层膜 微观力学性能 压痕 划痕
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Ag层厚度对NiCo/Ag多层膜的微结构及磁学性能的影响
13
作者 艾家和 耿魁伟 +3 位作者 杨国华 曾飞 高阳 潘峰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期47-50,共4页
采用磁控溅射方法制备了不同Ag层厚度的NiCo/Ag多层膜,研究了Ag层厚度对NiCo/Ag多层膜微结构及其磁学性能的影响.研究结果表明,NiCo/Ag多层膜中NiCo层在FCC的Ag层上准外延生长,为亚稳结构相.该多层膜的晶粒尺寸明显地随着Ag层厚度增加... 采用磁控溅射方法制备了不同Ag层厚度的NiCo/Ag多层膜,研究了Ag层厚度对NiCo/Ag多层膜微结构及其磁学性能的影响.研究结果表明,NiCo/Ag多层膜中NiCo层在FCC的Ag层上准外延生长,为亚稳结构相.该多层膜的晶粒尺寸明显地随着Ag层厚度增加而增大,当Ag层厚度为1.0nm时,多层膜是由约为5 nm纳米晶所组成;当Ag层厚度增加到3.6nm时,多层膜的晶粒尺寸增大到50nm左右.将NiCo层厚度固定为1.8 nm时,Ag层厚度的变化对NiCo/Ag多层膜的磁学性能有很强的影响,当Ag层厚度为1.0 nm时,其易磁化轴倾向垂直于膜面;当Ag层厚度达到2.0 nm时,易磁化轴平行于膜面;当Ag层厚度增厚至3.0 nm以上,多层膜表现出超顺磁特性. 展开更多
关键词 NiCo/Ag磁性多层膜 磁控溅射 微观结构 磁学性能
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离子束辅助沉积入射角对FexCr1-x合金薄膜微结构及磁性的影响
14
作者 谷宇 曾飞 +1 位作者 耿魁伟 潘峰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期64-66,共3页
运用离子束辅助沉积技术在不同的离子束入射角(0°,15°,30°,45°,60°,75°)下,制备了的FexCr1-x合金薄膜(x=50,67),并对其微结构和磁性进行了研究.在两组不同成分的薄膜中,均发现仅在入射角为45°时,垂... 运用离子束辅助沉积技术在不同的离子束入射角(0°,15°,30°,45°,60°,75°)下,制备了的FexCr1-x合金薄膜(x=50,67),并对其微结构和磁性进行了研究.在两组不同成分的薄膜中,均发现仅在入射角为45°时,垂直于膜面的方向上出现了(002)择优取向,且伴随着膜面的平面磁各向异性,而在其他角度的情况下,无择优取向及平面磁各向异性获得.根据择优取向的形成机制,斜入射的离子束在沉积过程中起到了混合及沟道效应的作用. 展开更多
关键词 FexCt1-x合金薄膜 离子束辅助沉积 入射角 择优取向 磁各向异性
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Fe/V多层膜中亚稳结构Fe的形成及其磁学性能
15
作者 徐迪 曾飞 +3 位作者 孔令体 耿魁伟 谷宇 潘峰 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期29-32,共4页
采用电子束蒸镀的方法,通过改变多层膜的周期结构,成功地制备出具有不同晶格常数的bcc亚稳结构铁相的Fe/V多层膜,并研究了亚稳结构铁相形成对其磁性影响的规律。实验结果表明,多层膜中Fe与V层均由纳米晶粒组成。Fe层厚度小于2nm时,受多... 采用电子束蒸镀的方法,通过改变多层膜的周期结构,成功地制备出具有不同晶格常数的bcc亚稳结构铁相的Fe/V多层膜,并研究了亚稳结构铁相形成对其磁性影响的规律。实验结果表明,多层膜中Fe与V层均由纳米晶粒组成。Fe层厚度小于2nm时,受多层膜界面自由能作用,Fe与V相互准外延生长,多层膜由点阵常数一致的体心立方相组成,其点阵常数随样品V/Fe层厚度比的增大而增加。多层膜平均原子磁矩随铁或钒层厚度的改变发生明显变化:当钒层厚度固定为6nm时,铁原子磁矩随铁层厚度的增加逐渐下降,在2nm处出现极小值后又随铁层增厚而回升;对于铁层厚度固定为1.6nm的样品,磁矩在钒层厚度为3nm时出现极大值。 展开更多
关键词 多层膜 亚稳bcc结构 原子磁矩
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一个圆柱形双栅场效应晶体管的物理模型
16
作者 刘佳文 姚若河 +1 位作者 刘玉荣 耿魁伟 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第15期249-256,共8页
圆柱形双栅场效应晶体管(CSDG MOSFET)是在围栅MOSFET器件增加内部控制栅而形成,与双栅、三栅及围栅MOSFET器件相比,圆柱形双栅MOSFET提供了更好的栅控性能和输出特性.本文通过求解圆柱坐标系下的二维泊松方程,得到了圆柱形双栅MOSFET... 圆柱形双栅场效应晶体管(CSDG MOSFET)是在围栅MOSFET器件增加内部控制栅而形成,与双栅、三栅及围栅MOSFET器件相比,圆柱形双栅MOSFET提供了更好的栅控性能和输出特性.本文通过求解圆柱坐标系下的二维泊松方程,得到了圆柱形双栅MOSFET的电势模型;进一步对反型电荷沿沟道积分,建立其漏源电流模型.分析讨论了圆柱形双栅MOSFET器件的电学特性,结果表明:圆柱形双栅MOSFET外栅沿沟道的最小表面势和器件的阈值电压随栅介质层介电常数的增大而减小,其漏源电流和跨导随栅介质层介电常数的增大而增大;随着器件参数的等比例缩小,沟道反型电荷密度减小,其漏源电流和跨导也减小. 展开更多
关键词 圆柱形双栅场效应晶体管 模型 栅介质 电学特性
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Al_(x)Ga_(1–x)N插入层对双沟道n-Al_(0.3)Ga_(0.7)N/GaN/i-Al_(x)Ga_(1–x)N/GaN HEMT器件性能的影响
17
作者 蔡静 姚若河 耿魁伟 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第16期325-334,共10页
双沟道AlGaN/GaNHEMT器件在电子限域性、电流运输等方面优于单沟道结构,且能更好地缓解电流崩塌,提高设备的运行能力,在高功率应用中具有重要意义.本文对n-Al_(0.3)Ga_(0.7)N/GaN/i-Al_(x)Ga_(1–x)N/GaN结构中的电荷状态以及运输性质... 双沟道AlGaN/GaNHEMT器件在电子限域性、电流运输等方面优于单沟道结构,且能更好地缓解电流崩塌,提高设备的运行能力,在高功率应用中具有重要意义.本文对n-Al_(0.3)Ga_(0.7)N/GaN/i-Al_(x)Ga_(1–x)N/GaN结构中的电荷状态以及运输性质进行研究.通过求解一维薛定谔方程和泊松方程,获得其电势、电场和电子分布,分析了双沟道中二维电子气状态与合金无序散射、位错散射的关系.结果表明,在第一沟道中,当Al_(x)Ga_(1–x)N的Al组分和厚度提升时,二维电子气密度逐渐减小,合金无序散射的减弱使迁移率增大,位错散射增强致迁移率变小,总迁移率主要由合金无序散射决定.在第二沟道中,当Al_(x)Ga_(1–x)N的Al组分和厚度提升时,二维电子气密度随之增大,由于较低的势垒高度以及高渗透电子的作用,第二沟道中的合金无序散射影响更大,合金无序散射迁移率随Al_(x)Ga_(1–x)N层的Al组分和厚度的增加而减少且变化趋势逐渐趋于平缓,位错散射作用的减弱导致迁移率的提升.总体上,第一沟道势阱中受到的位错散射低于第二沟道势阱.随着背势垒厚度的增加,第二沟道中主导的散射机制逐渐从位错散射转为合金无序散射. 展开更多
关键词 双沟道 2 DEG 迁移率
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基于3D激光器的机器人视觉定位引导系统设计与应用研究 被引量:2
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作者 覃见吉 耿魁伟 《机电产品开发与创新》 2017年第5期19-20,26,共3页
论文采用3D激光视觉技术采集三维空间机器人坐标位置和之前的标准图件对比计算出位置偏差发送给机器人,再有机器人计算矫正后行走正确的轨迹,从而保证工件的加工位置精度。
关键词 2D&3D激光器 图像处理 机器人轨迹 激光三角测量
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An analytical model to explore open-circuit voltage of a-Si:H/c-Si heterojunction solar cells 被引量:1
19
作者 钟春良 耿魁伟 +1 位作者 罗兰娥 杨迪武 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第3期598-603,共6页
The effect of the parameters on the open-circuit voltage, V_(OC) of a-Si:H/c-Si heterojunction solar cells was explored by an analytical model. The analytical results show that V_(OC) increases linearly with the logar... The effect of the parameters on the open-circuit voltage, V_(OC) of a-Si:H/c-Si heterojunction solar cells was explored by an analytical model. The analytical results show that V_(OC) increases linearly with the logarithm of illumination intensity under usual illumination. There are two critical values of the interface state density(D_(it)) for the open-circuit voltage(V_(OC)), D_(it)^(crit,1) and D_(it)crit,2(a few 1010 cm^(-2)·e V^(-1)). V_(OC) decreases remarkably when D_(it) is higher than D_(it)^(crit,1). To achieve high V_(OC), the interface states should reduce down to a few 1010 cm^(-2)·e V^(-1). Due to the difference between the effective density of states in the conduction and valence band edges of c-Si, the open-circuit voltage of a-Si:H/c-Si heterojunction cells fabricated on n-type c-Si wafers is about 22 mV higher than that fabricated on p-type c-Si wafers at the same case. V_(OC) decreases with decreasing the a-Si:H doping concentration at low doping level since the electric field over the c-Si depletion region is reduced at low doping level. Therefore, the a-Si:H layer should be doped higher than a critical value of 5×10^(18) cm^(-3) to achieve high V_(OC). 展开更多
关键词 异质结太阳电池 非晶硅薄膜 开路电压 解析模型 单晶硅 界面态密度 A-SI 掺杂浓度
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Photovoltage analysis of a heterojunction solar cell
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作者 熊超 姚若河 耿魁伟 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第5期359-362,共4页
According to the p-n junction model of Shockley,the relationship between the equilibrium carrier concentrations of n-type and p-type semiconductors on the edges of the depletion region of a p-n junction solar cell is ... According to the p-n junction model of Shockley,the relationship between the equilibrium carrier concentrations of n-type and p-type semiconductors on the edges of the depletion region of a p-n junction solar cell is analysed.The calculation results show that the photovoltage can exceed the built-in voltage for a special kind of heterojunction solar cell.When the photovoltage exceeds the built-in voltage under illumination,the dark current and the photocurrent are impeded by the peak of voltage barrier at the interface and the expression of the total I-V characteristic is given. 展开更多
关键词 太阳能电池 异质结 光伏 载流子浓度 P型半导体 光电压 计算结果 光照条件
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