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题名大焦深数字灰度光刻物镜设计
被引量:2
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作者
胡思熠
许忠保
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机构
湖北工业大学机械工程学院
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出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第4期464-468,共5页
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基金
国家自然科学基金资助项目(61077086)
湖北省重点自然科学基金资助项目(2011CDA007)
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文摘
为了提高数字灰度光刻系统的焦深,研究了基于点扩散函数稳定性的光瞳编码优化方法,在此基础上综合考虑系统的成像对比度和分辨率,利用工程计算软件MAPLE和光学设计软件ZEMAX设计了一种分辨率为1μm的含有5区相位型光瞳滤波器的长焦深数字灰度光刻系统。结果表明,系统调制传递函数表现出离焦不变性,在保证像方分辨率的前提下,系统的焦深被延拓到原有焦深的2.5倍以上,且在整个焦深空间内系统性能与焦点处保持一致,从而提高了光刻系统的工艺容限。所得实验结果与理论分析一致,说明了设计的可行性。
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关键词
光学设计
长焦深
相位型光瞳滤波器
无掩膜光刻
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Keywords
optical design
long focal depth
phase-only pupil filter
maskless lithography
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
TN202
[电子电信—物理电子学]
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