改性聚天冬氨酸阻垢剂的合成及其阻垢性能研究

为了拓展绿色阻垢剂聚天冬氨酸(PASP)的使用范围,以聚琥珀酰亚胺(PSI)为原料,蛋氨酸(Met)为改性试剂,制备新型绿色改性聚天冬氨酸阻垢剂(MPASP)。用红外光谱和核磁氢谱对制备的MPASP进行了结构分析;用热重分析法对MPASP进行了热稳定性分析;采用静态阻垢法探讨了MPASP对CaCO_(3)和CaSO_(4)垢的阻垢性能;用扫描电镜和红外光谱表征了MPASP阻CaCO_(3)和CaSO_(4)垢样的晶体形态。结果表明:MPASP的最佳合成条件为:反应物配比m((PSI))∶m((Met))=1.00∶0.10,反应溶液pH值为10,反应温度和反应时间分别为70℃和2 h。当MPASP的用量为8 mg/L时,对CaCO_(3)和CaSO_(4)的阻垢率分别为94.40%、95.49%,并且MPASP对CaCO_(3)和CaSO_(4)垢的阻垢作用优于PASP。添加MPASP后,使溶液中CaCO_(3)和CaSO_(4)钙垢晶体结构发生较大改变,钙垢结晶变得松散细小,干扰了致密钙垢的形成过程,达到了良好的阻垢效果。

酸性介质中菠菜提取物与KI对Q235钢的缓蚀性能

为了探明菠菜提取物与KI复配在0.5 mol/L H_(2)SO_(4)溶液中对Q235钢的协同缓蚀作用,利用失重法、电化学阻抗谱(EIS)、动电位极化曲线、扫描电镜(SEM)及能谱分析(EDS)探讨了0.5 mol/L H_(2)SO_(4)介质中菠菜提取物叶绿素(CHL)与KI对Q235钢材料的缓蚀协同作用及机理。结果表明:在0.5 mol/L H_(2)SO_(4)溶液体系中,CHL(100mg/L)与KI(50~200mg/L)复配时都表现出较好的缓蚀作用,缓蚀率都在90%以上,且当CHL与KI分别以100mg/L的浓度复配时,协同作用最好,缓蚀率高达98.04%。CHL与KI复配属于抑制阴极为主的混合型缓蚀剂。CHL及其与KI的复配物的缓蚀行为符合Langmuir等温吸附方程,为自发吸附过程,Q235钢表面形成了致密的保护膜。在0.5 mol/L H_(2)SO_(4)溶液体系中,CHL分子通过物理和化学吸附共同作用,吸附在Q235钢表面,阻止腐蚀反应发生。KI加入后,协助CHL分子吸附在Q235钢表面,提高了CHL分子的吸附率,表现为在降低腐蚀速率的同时,减少了CHL分子和KI的用量,增强了二者的协同效应进而提高了缓蚀率。

2微米波段低发散角瓦级GaSb基宽区量子阱激光器（英文）

通过在宽区GaSb基半导体激光器波导中引入鱼骨型微结构,实现了瓦级激光输出并且改善了侧向发散角.本文通过分析微结构的刻蚀深度对激光功率和远场特性的影响,研究并发现了微结构的引入可以明显的提高激光器输出功率,同时深刻蚀的微结构对降低模式数和侧向发散角有着更明显的改善作用.相比于未引入微结构的激光器,引入深刻蚀微结构的宽区激光器侧向95%功率定义的远场发散角降低了大约57%,并且实现了超过1.1 W的最大连续输出功率.

微腔效应对于1.3μm量子点光子晶体纳腔激光器调制响应的影响（英文）

微腔效应可以提高自发辐射速率,从而起到有效的改善响应调制速率的作用.然而,对于1.3μm GaAs/InAs量子点光子晶体激光器而言,调制速率还会受到复杂的载流子动力学以及更近的空穴能级间隔的影响.因此基于全路径载流子弛豫动力学方程,计算并讨论了腔品质因子(Q)对于阈值和响应调制特性的影响.计算结果表明,高的Q值能够明显改善量子点光子晶体激光器的阈值,但是同时快速增长的光子寿命会导致调制带宽的恶化.所以,存在一个优化的Q值(2500)可以获得超过100 GHz的调制带宽,而当Q值为7 000时,对应的能量传输损耗最低.因此,在量子点光子晶体纳腔激光器的设计中,更全面的考虑各方面的因素对器件的性能的影响,对于获得高速调制低功耗的量子点激光器器件是十分有意义的.