氨基三亚甲基膦酸的电化学高级氧化降解

为探索电化学高级氧化法对ATMP的降解效能,利用板框式电化学高级氧化装置,考察了溶液流速、温度、pH值、电流密度及Na_(2)SO_(4)浓度等关键参数对ATMP降解效果的影响;利用电子顺磁共振测试、自由基猝灭实验和ATMP降解动力学探讨了ATMP的降解机制.结果表明,溶液流速为450mL/min,温度为30℃,pH值为9,电流密度为300A/m^(2),电解质Na_(2)SO_(4)浓度为0.10mol/L时,ATMP的降解率最高,80min内可达99.7%,电化学高级氧化技术(EAOPs)能够有效降解ATMP;操作条件中电流密度、溶液流速和温度均影响ATMP降解率,但温度改变需要的能耗较高,而溶液流速对降解率影响较小,仅电流密度改变具有能耗小且对ATMP降解率影响显著的优点,因此本体系适合以电流密度作为反应的核心控制参数;研究采用的EAOPs体系产生的⋅OH(羟基自由基)和SO_(4)^(-)⋅(硫酸根自由基)均参与降解ATMP,反应速率常数分别为k_(•OH,ATMP)=(7.50±0.05)×10^(8)L/(mol·s)和k_(SO_(4)^(-)•,ATMPP)=(5.63±1.20)×10^(7)L/(mol·s),⋅OH在降解ATMP的过程中起主要作用.