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Cu覆盖层对CoCrPt颗粒膜的微结构和磁特性的影响 被引量:3
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作者 胡骏 孙会元 +2 位作者 苏振访 许佳玲 封顺珍 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期546-548,共3页
在室温下,应用对靶磁控溅射设备制备了系列Cu(xnm)/CoCrPt(40nm)/Cu(20nm)三明治结构的纳米颗粒膜,随后进行了原位退火。实验发现Cu覆盖层的厚度(x)对颗粒膜的微结构和磁特性有很大影响。样品垂直方向的矫顽力在x=11nm时达到最大,为138k... 在室温下,应用对靶磁控溅射设备制备了系列Cu(xnm)/CoCrPt(40nm)/Cu(20nm)三明治结构的纳米颗粒膜,随后进行了原位退火。实验发现Cu覆盖层的厚度(x)对颗粒膜的微结构和磁特性有很大影响。样品垂直方向的矫顽力在x=11nm时达到最大,为138kA/m,平行于膜面方向的矫顽力基本上与x的变化无关,且所有的样品都显示出很强的垂直各向异性。退火后的CoCrPt薄膜呈六角密堆积(HCP)结构,AFM和MFM测量显示在x=11nm时,颗粒的平均粒径和磁畴尺寸均为最小。开关场分布(SFD)的测量表明,退火有效地减弱了颗粒间的交换耦合作用。 展开更多
关键词 磁记录 纳米颗粒膜 矫顽力 垂直各向异性
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Influence of Ti on Microstructure and Magnetic Properties of FePt Granular Films
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作者 许佳玲 孙会元 +4 位作者 杨素娟 封顺珍 苏振访 胡骏 于红云 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第A02期137-140,共4页
在室温下,应用对靶直流磁控溅射设备在普通玻璃基片上制备了FePt(30 nm)/Ti(t nm)颗粒膜样品,随后,在真空中进行了原位退火。详细研究了Ti衬底层对FePt颗粒膜的微结构和磁特性的影响。X射线衍射图谱表明样品形成了较有序的L10织构,Ti和... 在室温下,应用对靶直流磁控溅射设备在普通玻璃基片上制备了FePt(30 nm)/Ti(t nm)颗粒膜样品,随后,在真空中进行了原位退火。详细研究了Ti衬底层对FePt颗粒膜的微结构和磁特性的影响。X射线衍射图谱表明样品形成了较有序的L10织构,Ti和FePt形成了三元FePtTi合金。当Ti层厚度t=5 nm、退火温度Ta=500℃时,样品具有高度有序的L10织构、小的颗粒尺寸和优异的磁特性。矫顽力超过了6.7 kOe,饱和磁化强度为620emu/cc。并且具有较小的开关场分布。结果表明FePt/Ti颗粒膜系统可作为超高密度磁记录介质的候选者。 展开更多
关键词 FePt/Ti颗粒膜 对靶磁控溅射系统 磁记录介质
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