化学镀镍的现状与发展

化学镀镍(EN)工艺所获得的非晶态Ni-P合金,具有高耐磨性和耐蚀性。近年来在国内外获得迅速发展和应用。本文着重讨论了化学镀(Ni-P)镀层的性能,溶液组成及其作用、工艺条件和主要反应,并提供了化学镀(Ni-B)合金以及多元化学镀镍、低温和超低温化学镀镍的工艺条件。

低磷化学镀镍层性能的研究

低磷镀层（ＬＰ）在碱性和中性盐水条件下的耐蚀性较高磷镀层好。当ＬＰ镀层在３５０℃下热处理１ｈ后，镀层的显微硬度从４５４Ｈｖ增加到８９０Ｈｖ。差热分析研究发现，在３４１．６℃和４０６．２℃有两个放热峰，分别对应于新相Ｎｉ５Ｐ２和Ｎｉ３Ｐ的形成。利用Ｘ射线衍射对镀层的结构进行分析，发现该镀层由非常细的微晶构成。

低温化学镀镍磷合金工艺的研究

提出了一种低温化学镀镍工艺，可在７０℃下进行（常规工艺操作温度为８５～９５℃），槽液稳定，沉积达率不小于１０μｍ／ｈ，使用寿命达５个周期以上，并得到磷的质量分数为０．０２～０．０５的Ｎｉ－Ｐ合金镀层。Ｈ２ＰＯ２－和Ｎｉ２＋影响沉积速率的反应级数分别为０．３和０．３４，Ｈ２ＰＯ２－的平均利用效率为０．７６。

高效高速低温镀铬工艺的研究

以ERC为催化剂的铬酸电解液,在D_K=50～120A/dm^2条件下,可达到ηk=40～60％,沉积速度100～240μm/h,镀液温度在20～45℃之间,可自然升温操作。是一种高效、高速,低温的工程镀铬电解液。其分散能力优于Sargent体系。镀层硬度H_V>800。

ERC高效低温工程镀铬层的性能

ERC高效(40％～60％)、低温(20～45℃)工程镀铬工艺可以获得镀层硬度Hv=800～900、浅灰亮、无裂纹镀层。测得内应力真值255N/mm^2,为标准工艺的1/43,耐磨性优于标准工艺。不需采用铬雾抑制剂,单件产品生产中的降雾量为标准工艺的1/4,铬酐拖带量可以作到与标准工艺相当。