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掺杂卤素对非晶态As_2Se_3中隙态的影响
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作者 张干城 范志岳 闵嗣桂 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1992年第2期210-213,共4页
本文研究的卤素掺杂非晶态 As_2Se_3中电子能级结构、发现材料的费米能级 E_F、深陷阱密度 N_P 以及ημτ输运参数值强烈地依赖于卤素的电负性,从中展示了在隙态中卤素浅能级的相对位置。
关键词 半导体 掺杂 非晶态
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