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掺杂卤素对非晶态As_2Se_3中隙态的影响
1
作者
张干城
范志岳
闵嗣桂
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第2期210-213,共4页
本文研究的卤素掺杂非晶态 As_2Se_3中电子能级结构、发现材料的费米能级 E_F、深陷阱密度 N_P 以及ημτ输运参数值强烈地依赖于卤素的电负性,从中展示了在隙态中卤素浅能级的相对位置。
关键词
硒
砷
半导体
掺杂
非晶态
下载PDF
职称材料
题名
掺杂卤素对非晶态As_2Se_3中隙态的影响
1
作者
张干城
范志岳
闵嗣桂
机构
中国科学院上海硅酸盐研究所
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第2期210-213,共4页
文摘
本文研究的卤素掺杂非晶态 As_2Se_3中电子能级结构、发现材料的费米能级 E_F、深陷阱密度 N_P 以及ημτ输运参数值强烈地依赖于卤素的电负性,从中展示了在隙态中卤素浅能级的相对位置。
关键词
硒
砷
半导体
掺杂
非晶态
Keywords
Non-crystalline
Chalcogenide semiconductors Dopant
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
掺杂卤素对非晶态As_2Se_3中隙态的影响
张干城
范志岳
闵嗣桂
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992
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