类金刚石薄膜对多孔硅发光的钝化作用

介绍了类金刚石薄膜对多孔硅发光的钝化作用．类金刚石薄膜隔绝了外界对多孔硅表面的影响,使硅氢键不易断裂,从而减少了非辐射复合中心,稳定了多孔硅的发光性能．通过在类金刚石薄膜中掺氮还可以进一步提高钝化效果,因为氮使多孔硅表面更多的悬空键被钝化形成Ｓｉ—Ｎ键,从而提高了发光强度．

金刚石薄膜在氧化铝陶瓷上低压成核

在微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统中,用低压成核方法,在氧化铝陶瓷基片上获得了高成核密度的金刚石薄膜.实验表明,金刚石成核密度随系统压强减小而提高.在此基础上,提出一种MPCVD系统中金刚石成核的动力学模型,并指出对应于最高成核密度有一临界压强存在.

金刚石膜/多孔硅复合材料的性能表征

提出了一种新颖的多孔硅表面钝化技术 ,即采用微波等离子体辅助的化学气相沉积 (MPCVD)方法在多孔硅上沉积金刚石薄膜。采用原子力显微镜 (AFM)、扫描电子显微镜 (SEM )、X射线衍射仪 (XRD)、拉曼光谱仪和荧光分光光度计对多孔硅及金刚石膜的表面形貌、结构和发光特性进行了表征。结果表明采用微波等离子体化学气相沉积法可在多孔硅基片上形成均匀、致密、性能稳定且对可见光具有全透性的金刚石膜。金刚石膜与多孔硅的复合 ,大大稳定了多孔硅的发光波长和强度 ,同时增强了多孔硅的机械强度。

系统压强对微波等离子体化学气相沉积金刚石成核的影响(英文)

为了在氧化铝上制备 (100)定向织构的金刚石薄膜，必须先提高金刚石的成核密度。在微波 等离子体化学气相沉积（ MPCVD）系统中，采用低压成核的方法，在氧化铝陶瓷上沉积出高成核密 度的金刚石薄膜。扫描电镜显示其成核密度可达 108 cm－ 2。在此基础上，沉积出（ 100）织构的金 刚石薄膜。

金刚石膜在多孔硅发光中的应用(英文)

采用微波等离子体化学气相沉积（ MPCVD）法成功地在多孔硅上沉积出均匀、致密的金刚 石膜。光致发光测量表明，金刚石膜可以有效稳定多孔硅的发光波长和发光强度，具有明显的钝 化效应。金刚石膜的这个特点再加上高硬度特性使金刚石膜成为多孔硅的一种潜在的钝化膜。

聚飞光电（300303）背光LED行业中的翘楚

一直以来聚飞光电给资本市场的印象就是稳健成长的白马股。从目前披露的业绩报表来看，公司业绩一直非常稳健，基本没有受到宏观经济的影响，也没有受到行业需求波动的影响。到2014年中期，公司依然保持着较高速的成长，5年来公司基本保持了30％以上的复合增长速率。