低合金高强钢焊缝熔敷金属强韧化机理

向焊缝熔敷金属过渡微量的Ti-B和稀土元素,可以有效地抑制先共析铁素体的析出,使焊缝获得细小、均匀的针状铁素体组织。从而提高了焊缝的低温冲击韧性。通过透射电镜观察,发现焊缝中合金元素能形成细小、难溶的非金属夹杂物,成为针状铁素体的形核核心;Ti能形成细小、难溶而弥散分布的化合物(TiO)质点,对针状铁素体的形核更为有利。针状铁素体由许多亚结构组成,这相当于进一步细化了晶粒,是提高焊缝熔敷金属低温韧性微观原因。

TiAl合金与40Cr钢的真空钎焊研究

采用Ag-Cu-Ti钎料进行了TiAl合金与40Cr钢的真空钎焊连接,用拉伸试验对接头的连接强度进行检验,采用扫描电镜、电子探针和X-射线衍射分析等手段对接头断口的形貌、界面原子扩散、界面反应及界面产物进行了分析。研究结果表明,采用Ag-Cu-Ti钎料时得到的焊缝具有很高的强度(426MPa),是因为钎料和TiAl母材中的Ag,Cu,Ti原子发生了互扩散,而且在钎料与母材的界面发生了界面反应,形成了AlCu_2Ti相,实现了冶金上的结合。

Ti过渡层对TiO_2/Ag/TiO_2复合多层膜热稳定性影响研究

2～3nm的Ti过渡层有效的提高了TiO2／Ag／TiO2多层膜的热稳定性同时对原始膜层的光学性能影响较小。通过AFM形貌分析表明Ti膜促进了Ag膜的连续性和抗结块性能。XRD分析表明在沉积态Ti层已经发生了氧化形成Ti2O3，从而提高了Ag膜与TiO2的结合力。热处理后促进了Ag（111）取向的发展，因此，Ag膜稳定性得到了提高。

透紫外隔热银基复合多层膜的结构设计和光学性能

综合分析材料的能带结构及内光电效应,利用金属膜诱导透射定理设计并制备了几种透紫外隔热纳米多层膜.该多层膜系具有较高的近紫外透过率和优异的红外反射性能,在紫外固化的应用峰值365 nm处透射率高达80%,而对于波长在1 600 nm的红外波段反射率超过了90%,可用于紫外固化中有害热量的防护,提高固化质量.采用传统的真空蒸镀工艺获得较好膜层质量,膜系采用非晶TiO2与金属Ag交替生成TiO2/Ag/TiO2三明治结构.对比分析了膜层结构对其光学性能的影响,并利用变角椭圆偏振仪(VASE)分析了多层膜的界面。结果表明,Ag/TiO2界面明晰,无过渡层和界面反应层.

蒸镀Cu-In合金硒化制CuInSe_2薄膜

利用两源蒸镀 Cu- In合金膜 ,在半封闭石墨盒中硒化 ,制备了具有单一黄铜矿结构的Cu In Se2 ( CIS)薄膜 .实验研究了合金膜组分与薄膜结构、形貌的关系 .探讨了不同硒化温度对 CIS薄膜组织结构、成分和晶粒尺寸的影响 .结果表明 ,单一结构有利于 Cu- In合金膜的均匀和平整 .硒化过程中 ,随着硒化温度的升高 Cu的损失量增加 ,In的损失量相对减少 ;在 30 0°C硒化时开始出现 CIS黄铜矿结构 ,35 0°C硒化所得薄膜绝大多数为 CIS结构 ,5 0 0°C制得单一结构的

TiO_2/Ag/TiO_2纳米多层膜的研究

设计和制备了用于平面显示器透明电极的纳米多层薄膜TiO2/Ag/TiO2,它的明视透光率Tlum约为89.3%,在2500nm波长处的反射率R2500>95%,方块电阻为3.0Ω/cm2,在550nm波长处的电气性能评价指标FTC=137×10-3Ω-1。发现顶层介质折射率的变化将会引起膜系透射峰的水平移动,而底层介质折射率的变化将仅仅影响膜系透射峰的高低。