烧结压力对SPS制备MoSi_(2)涂层高温抗氧化性能的影响

以废弃硅钼棒为原料,采用放电等离子烧结(spark plasma sintering, SPS)技术在钽基体上制备出MoSi_(2)涂层,研究了烧结压力对涂层微观形貌及其1 600℃下抗氧化性能的影响.结果表明:在10~40 MPa的范围内,提高烧结压力可增强涂层的致密性和阻氧能力,并且涂层表面大尺寸的裂纹消失,仅存在少量的微裂纹;经1 600℃氧化50 h后,烧结压力分别为20,30,40 MPa下所制备的涂层表面均完整无剥落,并形成连续的SiO_(2)保护膜,可有效阻碍氧气扩散;当烧结压力为40 MPa时,涂层的质量增益最低(7.4 mg/cm~2),其扩散层和玻璃膜较薄,此时涂层表现出最佳的防护效果.