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激光诱导等离子体淀积薄膜过程的研究
1
作者
张贵银
荆一东
《四川工业学院学报》
2001年第4期66-67,共2页
用激波理论推出了激光诱导等离子体化学气相淀积过程中两个重要参量薄膜面积、膜淀积速率的表达式。分析了激光强度、气体压强、基片温度对淀积过程的影响 。
关键词
激光诱导等离子体化学气相淀积
薄膜面积
淀积速率
薄膜
制备
下载PDF
职称材料
题名
激光诱导等离子体淀积薄膜过程的研究
1
作者
张贵银
荆一东
机构
华北电力大学
出处
《四川工业学院学报》
2001年第4期66-67,共2页
文摘
用激波理论推出了激光诱导等离子体化学气相淀积过程中两个重要参量薄膜面积、膜淀积速率的表达式。分析了激光强度、气体压强、基片温度对淀积过程的影响 。
关键词
激光诱导等离子体化学气相淀积
薄膜面积
淀积速率
薄膜
制备
Keywords
plasma
vapor deposition
film size
deposition rate
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
O53 [理学—等离子体物理]
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作者
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1
激光诱导等离子体淀积薄膜过程的研究
张贵银
荆一东
《四川工业学院学报》
2001
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