碲锌镉晶片双面机械化学磨抛分析

介绍了碲锌镉晶片双面磨抛机的工艺过程和原理,研究了双面磨抛工艺中磨抛液粒度、抛光压力、抛光液流量和工作台转速对晶片表面粗糙度及平整度的影响。

液晶显示技术初露锋芒

本文简述了液晶显示技术的发展及其用途,介绍了国外的投资趋势和生产技术的发展,并展望了未来的液晶显示器市场前景,提出了加快我国液晶显示技术的几点建议。

半导体微细加工中的光刻技术

本文介绍了光刻技术的新进展,分析比较了各种光刻技术的自身优势,展望了它们的前景,探讨了它们在动态随机存取存储器(DRAM)进入G位时代的地位和作用。

液压系统泄漏的原因与对策研究

详细阐述了液压系统泄漏的原因,从系统设计、密封件选择、制造装配、油液污染等方面,指出了防治系统泄漏应注意的各个环节;提出了液压系统泄漏故障的处理方法。

碲锌镉晶片研抛加工表面层损伤的研究

介绍了碲锌镉晶片背面研抛机的工艺过程和原理,研究了研抛工艺中砂轮粒度、砂轮进给率、砂轮转速和工作台转速对晶片表面层损伤深度的影响。