Ni_(80)Fe_(20)/Cu多层膜界面原子结构的分析

近来 ,超薄层的Ni80 Fe2 0 /Cu多层膜因其在巨磁电阻 (GMR)器件上的潜在应用而引起了极大的研究兴趣。众所周知 ,薄膜的电学和磁学性质明显地依赖于薄膜的微结构 ,如膜层的结晶性、应变分布、界面粗糙度以及原子互扩散等。由于巨磁电阻主要起源于界面自旋相关散射 ,有必要对Ni80 Fe2 0 /Cu多层膜的界面结构进行表征。但是 ,由于Ni80 Fe2 0 /Cu的原子散射因子差别非常小 ,用常规的X射线和电子衍射技术无法分析Ni80 Fe2 0 /Cu多层膜的界面结构。为克服这一困难 ,我们利用小角DAFS(衍射异常精细结构 )技术成功地分析了Ni80 Fe2 0 /Cu界面的原子密度和结晶性。所有样品都是用直流磁控溅射法在Si( 0 0 1 )衬底上制备的 ,其名义结构为 :Si( 0 0 1 ) /Fe( 80nm) / [Ni80 Fe2 0 ( 1 .8nm) /Cu(t) ]3 0 。其中 ,Fe为缓冲层 ,Cu层厚度分别为 0 .96nm和 0 .7nm。样品在优于 1 0 -3 Pa的真空中 ,1 5 0℃和 2 5 0℃的温度下分别进行了 1h的退火处理。用同步辐射X射线测量了样品特定衍射峰的强度随入射X射线能量的变化 ,即小角DAFS谱。结果分析表明 ,相对于Ni80 Fe2 0 和Cu体材料的原子密度差 (Δ0 )而言 ,多层膜中Ni80Fe2 0 和Cu的原子密度差别 (Δ)在退火之后明显减小 ,同时伴随着局域结晶性的改善。我们的结构还表?

衍射异常精细结构(DAFS)谱及其应用

本文对近年来正在发展中的DAFS技术,从原理、实验方法、数据处理到DAFS技术的应用及其前景作了一个简要的综述性介绍。

传统职业教育现代转型中的问题分析与对策研究——基于财务管理视角

2014年5月,国务院为深化体制机制改革,适应技术进步以及生产方式变革的需要,下发《关于加快发展现代职业教育的决定》,为激发职业教育办学活力,完善经费稳定投入机制,提出引导社会力量兴办职业教育、健全企业参与制度、鼓励多元主体组建职业教育集团等政策支持。传统职业教育向现代转型,面对形成的多元主体,首先应树立现代经费管理理念,把握多元化经费来源和管理的关键节点;其次要引入企业经费绩效评价标准,对经费的使用和管理进行多维度、多角度、全方位的考核。

用北京同步辐射光源研究氟化物闪烁体的荧光时间衰减特性

介绍了利用北京同步辐射光源测量闪烁体荧光时间结构特性的新方法．并用此方法测量了纯ＢａＦ２、ＣｅＦ３晶体和粉晶样品及掺Ｌａ３＋、Ｃｅ３＋的ＢａＦ２晶体时间衰减谱．对ＢａＦ２掺稀土元素的测量结果表明，Ｌａ３＋和Ｄｅ３＋的掺入对ＢａＦ２时间衰减慢成分均有一定的抑制作用，但从理论上分析两种掺杂对慢成分的抑制机制并不相同。