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闭合场非平衡磁控溅射离子CrAlTiN镀层在PCB用微钻中的应用 被引量:7
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作者 种艳琳 蒋白灵 白力静 《表面技术》 EI CAS CSCD 2006年第2期65-68,共4页
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB微钻上进行复合金属镀层处理,通过与无镀层微钻进行钻削试验对比,结果表明:CrA lTiN镀层微钻使用寿命与无镀层微钻相比,寿命可提高3倍;具有纳米结构的高硬度镀层显著提高了微钻的耐磨性。
关键词 闭合场 非平衡 磁控溅射 离子镀 CrAlTiN镀层 PCB微钻 寿命 耐磨性
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