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题名微显示器和晶圆技术的现状及展望
被引量:1
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作者
黄河
蒲贤勇
唐德明
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机构
中芯国际集成电路制造有限公司
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出处
《现代显示》
2005年第10期10-18,共9页
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文摘
介绍LCD、DMD和LCOS三大主流微显示器的构造、制作和基于微显示技术的投影显示基本原理,并展望其发展趋势及中芯国际的LCOS开发成果。
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关键词
微显示器
晶圆制造技术
投影显示
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Keywords
microdisplay
silicon wafer manufacturing technology
projection display,
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分类号
TN873
[电子电信—信息与通信工程]
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题名功率NLDMOS电学安全工作区的版图设计优化
被引量:1
- 2
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作者
陈轶群
陈佳旅
蒲贤勇
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机构
中芯国际集成电路制造有限公司
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出处
《半导体技术》
CAS
北大核心
2019年第8期623-627,658,共6页
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文摘
在不调整制备工艺、不增加工艺成本条件下,研究了管芯版图优化对功率n型横向扩散金属氧化物半导体(NLDMOS)电学安全工作区(E-SOA)的影响。通过研究p^+带嵌入方式、p^+图形形状、p^+分布密度、阵列单元栅宽及总栅数、金属引线方式等进行了版图设计优化和流片。管芯传输线脉冲(TLP)E-SOA测试结果表明,优化后的版图使NLDMOS在5 V工作电压下TLP E-SOA提升约30%,金属引线的加宽和叠加使NLDMOS的开态电流提升约7%。带状紧凑型p^+带且双栅极嵌入的优化版图设计能更好地稳定硅衬底电位,抑制寄生三极管的开启,增大E-SOA,提高器件可靠性。因此,版图设计优化对提升功率NLDMOS的性能和可靠性具有实际意义。
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关键词
功率管
n型横向扩散金属氧化物半导体(NLDMOS)
版图设计
电学安全工作区(E-SOA)
传输线脉冲(TLP)
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Keywords
power transistor
n-type laterally diffused metal oxide semiconductor(NLDMOS)
layout design
electrical safe operating area(E-SOA)
transmission line pulse(TLP)
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分类号
TN386
[电子电信—物理电子学]
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