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烃等离子体聚合物涂层 被引量:1
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 1999年第12期10-11,共2页
关键词 烃等离子体 聚合物 涂层 薄膜
全文增补中
JET中的内部输运垒放电及其对边缘条件的灵敏度
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作者 蓉佳 《国外核聚变》 2002年第6期7-13,共7页
几次JET实验致力于研究具有内部输运垒(ITB)的稳态放电,ITB形成于放电电流的上升阶段,放电是在芯部具有低磁剪切[=r/q(dq/dr)]和附加的高加热功率条件下进行,为了得到在高压力峰值下稳定性与破裂的关系,这在ITB放电中是典型的,... 几次JET实验致力于研究具有内部输运垒(ITB)的稳态放电,ITB形成于放电电流的上升阶段,放电是在芯部具有低磁剪切[=r/q(dq/dr)]和附加的高加热功率条件下进行,为了得到在高压力峰值下稳定性与破裂的关系,这在ITB放电中是典型的,可以加宽在等离子体边缘有H模输垒的压力分布。但是,由于在ITB处旋转剪切和压力梯度的减小,无ELM H模期间边缘压力的大幅增大削弱了ITB。另外,H模阶段I型ELM活性导致JET中现有输入功率(达28MW)时ITB的崩塌,通过控制输入功率减小芯部压力以及利用氩气剂量控制等离子体的边缘压力,获得了最佳ITB放电,在大约30%-40%Greenwald密度的线平均密度下,这些放电达到了H97约束增强因子(τE/τE.ITER97,定标)为1.2-1.6时若干能量约束时间(τE)的稳态条件,利用添加的氘气剂量或浅弹丸加料增大密度导致了ITB削弱,为了维持高密度下的ITB,应在等离子体边缘保持Ⅲ型ELMS,给出未来JET实验的范围。 展开更多
关键词 内部输运垒 放电 边缘条件 灵敏度 JET ITB 磁剪切 能量约束 托卡马克装置
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成都联合管理资源 有效治理公话价格秩序
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作者 蓉佳 《通信与信息技术》 2007年第6期23-23,共1页
针对群众和媒体反映强烈的成都火车北站地区公用电话乱收费现象,今年以来,成都市物价局和市政府北站办加强了公用电话收费的监管工作,并于9月16日至10月30日期间开展了为期45天的北站地区公话收费专项治理工作。
关键词 专项治理工作 成都市 管理资源 公话 乱收费现象 秩序 价格 公用电话
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利用可控等离子体势辉光放电源进行PⅢ
4
作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第12期7-8,共2页
关键词 等离子体源 离子植入 等离子体加工 蚀刻 等离子体势 辉光放电源 PⅢ 清洗
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氢PⅢ之后硅晶片表面的金属污染
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第2期4-5,共2页
关键词 离子切割 SOI 微电子器件 制造技术 氢PⅢ 硅晶片 金属污染
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RF氧或氢等离子体除去碳氢化合物的研究
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 1999年第9期19-20,共2页
关键词 等离子体 射频 活性源 碳氢化合物
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在类金刚石碳膜上沉积MoS2膜的显微结构分析
7
作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 1999年第7期17-18,共2页
关键词 类金刚石 碳膜 二硫化钼 薄膜沉积 显微结构分析
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钛金属的甲烷,氮等离子体浸没离子侵入
8
作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 1999年第4期5-6,共2页
关键词 甲烷 等离子体浸没 离子植入
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大直径表面波等离子体的产生与控制
9
作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 1999年第6期1-4,共4页
关键词 表面波 等离子体 SWP源 产生 控制
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高密度微波等离子体的产生及对其形成大面积微晶硅薄膜的应用
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 1999年第8期15-17,共3页
关键词 微波等离子体 微晶 薄膜沉积 大面积
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一种极高靶功率密度的新型脉冲磁控管溅射技术
11
作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第5期12-13,共2页
关键词 靶功率密度 脉冲磁控管溅射技术 等离子体 薄膜
全文增补中
PECVD制备的(Ti1—XAlx)N涂层的高温氧化性
12
作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第7期18-19,共2页
关键词 PECVD 涂层 高温氧化性 (Ti1-xAlx)N
全文增补中
水等离子体浸没植入合成埋入氧化硅层
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第4期8-10,共3页
关键词 水等离子体 浸没值入 埋入 氧化硅层
全文增补中
离子轰击对用rf磁控管反应性溅射和ECRPACVD法沉积的CNx和CNxHy膜的作用
14
作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第11期22-24,共3页
关键词 离子轰击 RF磁控管反应性溅射 ECRPACVD法 薄膜
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用螺旋波激发的氮—氧—氩等离子体氧化GaAs
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第5期8-10,共3页
关键词 螺旋波激发 氮-氧-氩等离子体 氧化 砷化镓
全文增补中
钢的金属PIII表面改性
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第10期6-7,共2页
关键词 金属表面 改性 等离子体浸没离子植入
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用基于等离子体的离子植入机对纯合金铝进行表面处理
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第1期5-7,共3页
关键词 等离子体 离子植入机 纯合金铝 表面处理
全文增补中
脉冲强流离子团粒源
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 1999年第11期8-9,共2页
关键词 脉冲强流 离子团粒源 半导体 薄膜沉积
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在RIKEN18GHz电子回旋共振离子源中电极对等离子体电位降落的影响
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 1999年第2期20-21,共2页
关键词 离子源 电子回旋共振 等离子体 电位降
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双金属晶体表用射离子产额
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作者 蓉佳 《等离子体应用技术快报》 2000年第3期23-24,共2页
关键词 双金属晶体表面 散射高子产额 薄膜
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