多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备及其场电子发射

研究了多孔硅衬底微波 CVD金刚石薄膜的制备工艺及其场电子发射特性 .以多孔硅作为生长金刚石突起阵列的模板 ,生长出带多微尖的微晶金刚石晶粒 ,使场电子发射阈值下降 (<1V/ μm) ,发射电流增大 (>90 m A/ cm2 ) ,场发射性能稳定 ,并对这种场发射特性做出了理论解释 .

研究性教学课堂经验交流——关于13.6eV的讲授

本文围绕氢原子基态能级,分别从玻尔理论、定态薛定谔方程及不确定关系三个方面对其做了讨论.这是使用“大学物理学”[1]教材中的部分课堂讲授内容,目的是想说明在具体教学中怎样带领并启发学生以研究的眼光学习,掌握知识,使学生对学科发生兴趣.

纳米金刚石涂层上化学气相沉积金刚石薄膜的场电子发射

在爆炸法合成的纳米金刚石粉涂层上,用微波等离子体化学气相沉积法制备了含有大量纳米晶的金刚石薄膜。应用XRD,Raman和SEM对其结构进行了分析。应用平面薄膜二极式结构研究了它的场电子发射特性,结果表明:这种含有纳米金刚石的薄膜具有更低的开启电压(1.8V/μm)和更高的场发射电流密度(50mA/cm^2)。应用纳米金刚石晶粒的量子尺寸效应对这种实验结果给予了理论说明。