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High performance trench MOS barrier Schottky diode with high-k gate oxide 被引量:2
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作者 翟东媛 朱俊 +3 位作者 赵毅 蔡银飞 施毅 郑有炓 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第7期426-428,共3页
A novel trench MOS barrier Schottky diode(TMBS) device with a high-k material introduced into the gate insulator is reported, which is named high-k TMBS. By simulation with Medici, it is found that the high-k TMBS c... A novel trench MOS barrier Schottky diode(TMBS) device with a high-k material introduced into the gate insulator is reported, which is named high-k TMBS. By simulation with Medici, it is found that the high-k TMBS can have 19.8% lower leakage current while maintaining the same breakdown voltage and forward turn-on voltage compared with the conventional regular trench TMBS. 展开更多
关键词 trench MOS barrier Schottky diode high-k gate oxide leakage current
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沟槽形状对硅基沟槽式肖特基二极管电学特性的影响 被引量:3
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作者 翟东媛 赵毅 +2 位作者 蔡银飞 施毅 郑有炓 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第12期304-310,共7页
随着对电子产品节能环保要求的提高,对广泛应用于电子产品的肖特基二极管电学性能的要求也越来越高.含金属-氧化物-半导体结构的沟槽式肖特基二极管(trench barrier Schottky diodes,TMBS)由于其优异的性能而备受青睐.沟槽结构对提高肖... 随着对电子产品节能环保要求的提高,对广泛应用于电子产品的肖特基二极管电学性能的要求也越来越高.含金属-氧化物-半导体结构的沟槽式肖特基二极管(trench barrier Schottky diodes,TMBS)由于其优异的性能而备受青睐.沟槽结构对提高肖特基二极管性能起着至关重要的作用,但是关于沟槽形状对二极管电学性能的影响尚未见有深入的研究报道.本文提出了两种新型的沟槽结构——圆角沟槽和阶梯型沟槽.通过模拟研究发现,圆角沟槽与传统的直角沟槽TMBS器件相比,在维持同样的漏电流和正向导通电压的条件下,击穿电压可以提高15.8%.阶梯沟槽与传统直角沟槽TMBS器件相比,可以在击穿电压不减小的情况下,漏电降低35%,正向导通电压仅略有增加.这归结于圆角沟槽和阶梯沟槽对有源区内部电场强度分布的调节. 展开更多
关键词 肖特基二极管 金属-氧化物-半导体结构 沟槽式肖特基二极管 沟槽形状
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