应用分波法计算低能电子弹性散射截面

基于Pendry的工作,建立一个应用量子力学分波法计算低能电子弹性散射截面的方法,该方法采取Hartree近似和Hartree-Fock近似相结合,既节省计算机时又能将Pendry的算法延伸到keV以上能区。计算了元素Be、C、Al、Cu等的弹性散射截面,并与Screen-Rutherford截面进行比较。本文方法已用于低能电子散射研究中。文中给出计算程序框图。

电磁复合场三级几何像差方程的一种数值解法

本文提出了利用函数逼近的数值迭代方法精确求解电磁复合场中电子成像系统三级几何像差方程式的概念,避免了传统电子光学近似计算造成的附加误差,提高了像差计算的精度,为高精度电子光学设计提供了可信的依据。

电磁复合场中电子成像系统的计算机辅助分析

本文利用数值仿真技术对复合场中电子成像系统的像差理论做了研究。基于一种新的计算方法编写了一套完整的像差计算程序,由此可求得任意初始条件下复合场中电子成像系统的三级几何像差。其计算精度可比传统软件的提高四倍以上,为高精度电子光路的设计提供了可靠的理论工具。

固体中散射电子空间输运的矩阵方程

用蒙特卡罗方法模拟固体中电子散射的计算量很大,为此给出一个描述这一过程的矩阵方程。该方程只涉及乘法运算,用于转换散射电子的空间坐标。计算方便、节省机时,明显优于习惯上使用的直角坐标系方程。

亚微米电子束曝光机数控电流源系统

本文介绍了亚微米电子束曝光机电流源系统。该系统在国内首次使用计算机实现了自动化调节,系统内关键部位使用了大量先进器件,多达20路独立可调的电流输出,稳定度均达到2×10^(-5)/1小时。其中对稳定度要求最高的物镜电源,由于首次将电压/频率转换器(VFC)用于连续可调的电源系统,形成了一个闭环反馈控制电路,使它达到5×10^(-6)/4小时的稳定度。该系统还具有很强的抗干扰能力,纹波<1×10^(-5)V_(P-P)。这些指标保证了0.1μm束斑的精度要求,它的研制成功为电子束曝光机的自动化调机奠定了基础。

高稳定度数控电流源系统

本文介绍了亚微米电子束曝光机数控电流原系统。该系统在结构上抛弃了传统的开环控制的方式,首次将电压/频率转换器(VFC)用于连续可调的电源,实现了闭环控制。该系统集高稳定度、高精度、高抗干扰性、大电流、低噪声、多路输出、计算机控制于一体,它的研制成功为亚微米电子束曝光机的自动化调机奠定了基础,并可推广用于其它需要高稳定度数控电源的领域。

亚微米电子束曝光机数控电流源系统

对于亚微米级的电子束曝光机而言,电子光柱体电流源系统的自动化程度及各路电流源尤其是物镜电源的稳定度,对束斑的影响极大。为突破0.1μm的束斑,特研制了一种电流源系统,集高稳定度、高精度、高抗干扰性、大电流、低噪声、多路输出、计算机控制于一体,它的研制成功为亚微米电子束曝光机的自动化调机奠定了基础,并可推广用于其它需要高稳定度数控电源的领域。 系统构成 该系统在结构上抛弃了传统的开环控制方式,首次将电压/频率转换器(VFC)用于连续可调的电源。整个电流源系统由23个模块组成,其中20块电源板输出20路独立的电流;

ENERGY DEPOSITION AND DISTRIBUTION WITHIN RESIST FILM IN ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY

I.INTRODUCTION Electron beam lithography (EBL)is one of the most important methods to fabricate a submicron VLSI device. The ultimate resolution of EBL is limited by electron scattering in resist film and substrate (Fig. 1). E-beam irradiation