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准分子激光晶化制备TFT多晶硅薄膜的研究进展 被引量:5
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作者 言益军 戴永兵 +1 位作者 王俊 孙宝德 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期70-74,共5页
对准分子激光晶化制备TFT用多晶硅薄膜的研究进展进行了综述。介绍了晶化过程中的超级横向生长现象。主要结合各种基于光束调制和光刻技术的人工控制超级横向生长方法,讨论了获得大晶粒尺寸优质多晶硅薄膜的途径。
关键词 TFT 多晶硅薄膜 准分子激光晶化 人工控制超级横向生长
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