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TFT-LCD边角白点不良的分析和改善
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作者 许叶潞 《光电子技术》 CAS 2023年第2期177-180,共4页
研究了6世代线生产的A产品边角白点不良问题。首先针对不良进行实物分析,然后利用Minitab软件的二元逻辑回归方法进行了数据分析,最后通过不同的工艺试验条件对不良进行改善。实验结果表明:不良区域封框胶被金属走线遮挡,遮挡比例是边... 研究了6世代线生产的A产品边角白点不良问题。首先针对不良进行实物分析,然后利用Minitab软件的二元逻辑回归方法进行了数据分析,最后通过不同的工艺试验条件对不良进行改善。实验结果表明:不良区域封框胶被金属走线遮挡,遮挡比例是边角白点不良的重要影响因素;TOF-SIMS(Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry)进一步分析发现不良区有更高含量的封框胶成分(丙烯酸类、双酚A类)。封框胶被金属走线遮挡,造成该区域封框胶固化不完全,导致封框胶成分析出溶入液晶,继而影响液晶正常偏转,产生边角白点不良。通过调整边角处的封框胶画法,可以有效降低不良率。实验改善了边角白点不良,为A产品的顺利量产打下了坚实基础。 展开更多
关键词 薄膜晶体管液晶显示器 边角白点 封框胶
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基于杂质离子含量评价的LTPS-LCD面板测量体系 被引量:1
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作者 邓文广 许叶潞 +2 位作者 温建辉 黄碧钦 金昌连 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2021年第10期1388-1394,共7页
残像是影响液晶显示器(LCD)面板品质的重要因素,残像的不良改善已成为面板工厂持续性研究课题。残像程度与杂质离子的含量正相关,为了实现对低温多晶硅(LTPS)LCD盒内杂质离子含量的监控,本文系统地对LTPS-LCD面板测试盒测量体系进行了研... 残像是影响液晶显示器(LCD)面板品质的重要因素,残像的不良改善已成为面板工厂持续性研究课题。残像程度与杂质离子的含量正相关,为了实现对低温多晶硅(LTPS)LCD盒内杂质离子含量的监控,本文系统地对LTPS-LCD面板测试盒测量体系进行了研究,并对该测量体系的稳定性、分辨能力进行了探讨。首先针对LTPS技术的面板设计了一种新的测试盒,然后采用液晶电压保持率(Voltage Holding Residual,VHR)评价盒内杂质离子含量,运用测量系统分析方法对其可靠性进行评估,最后通过对比不同紫外线(UV)照射时间与光配向烘烤时间下VHR的变化分析其分辨力。实验结果表明该测量体系的量具重复性、再现性(Gage R&R%)为10.77%,变异与流程公差(P/T)为26.93%<30%,可区分数为13>5,不同批次VHR均值维持在93%~95%,测量结果可靠、稳定,并能有效识别出VHR差异。本文设计的测试盒符合LTPS-LCD面板产业对杂质离子含量监测需求,可为工厂实际生产中杂质离子的监控提供参考。 展开更多
关键词 残像 电压保持率 LTPS-LCD 测试盒 杂质离子
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