四氧化三钴工业化生产工艺的对比研究

文章研究探讨了湿化学沉淀-高温煅烧、喷雾热解和直接热解三种规模化生产四氧化三钴工艺,在此基础上,从技术装备的成熟度、最终产品的物理化学指标以及对环境的影响等维度对比分析了上述工艺的优缺点。湿化学沉淀-高温煅烧工艺具有可精确调控产品微观形貌和粒度分布、容易实现原子级别均匀掺杂改性以及生产组织灵活等优点,在电池级四氧化三钴生产中一直占据主导地位。

废稀土抛光粉盐酸浸出过程研究

采用盐酸直接浸出方式从稀土废抛光粉中回收稀土,考察了盐酸浓度、浸出温度、浸出时间和液固比对稀土和主要杂质元素Al_(2)O_(3)浸出率的影响,并探讨了浸出机理。结果表明,HCl体系单级浸出的优化条件为:HCl浓度8 mol/L、浸出温度80℃、浸出时间3 h、液固比4∶1,此时稀土元素浸出率为90.81%,Al_(2)O_(3)浸出率为43.68%。对比了单级浸出、二级浸出和三级逆流浸出效果,证实三级逆流浸出时稀土浸出率高达98.38%,浸出液中稀土总量增加,有利于稀土元素的下一步萃取回收,大大降低了回收成本。

碱性水介质中纳米氧化铈的稳定分散研究

基于水介质中纳米氧化铈(CeO2)难以稳定分散的技术屏障,在分析纳米氧化铈理化性质的基础上,采用超声波药剂分散方法,研究了碱性水介质中纳米CeO2稳定分散的条件与机理。结果表明,在颗粒浓度1 000 mg/L的纳米氧化铈母液中加入无机电解质SPP或PSPP,用去离子水稀释并调pH值为10.0,超声波分散玻璃棒搅拌10min,当SPP或PSPP浓度为1×10^-3mol/L时,静置30 d期间纳米CeO2的平均粒度几乎不随静置时间变化,平均粒度稳定在160 nm左右,此介质中样品具有良好的长效稳定分散性能。

铜电解阳极泥焙烧脱硒工艺研究

本文以铜电解阳极泥为原料,采用硫酸化焙烧对该原料中硒的脱除工艺进行了研究,考察了影响脱除硒的主要因素。通过实验研究确定了该工艺较优技术参数:即阳极泥与酸的比例为2.0;阳极泥与酸混合后静置时间6 h;鼓入气体为空气;空气的流量1.5 L/min;焙烧温度650℃;焙烧时间180 min。在优化条件下,硒的挥发率高于98%。该工艺的研究,为铜电解阳极泥处理工艺改造提供了可靠的技术参数。

弱碱性水介质中纳米CeO2的分散

在分析纳米CeO2各种性质的基础上，研究了不同分散剂对纳米CeO2的表面电性及平均粒度的影响，并对分散机理进行了分析。结果表明：添加无机电解质及组合使用离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂可以使纳米CeO2在弱碱性水介质中保持良好的分散性。

纳米氧化铈颗粒的粒度分析研究

针对自制的纳米CeO2进行了一系列粒度分析研究,包括XRD、SEM、TEM、动态光散射法、比表面分析法、X射线衍射法和X射线小角度散射法(SAXS)。不同的研究手段得到的纳米CeO2的粒径不尽相同,并阐述了各种研究手段的优缺点及适用范围。

爆轰纳米金刚石分散技术研究进展

对液相中爆轰纳米金刚石(detonation nanodiamond,DND)分散机理、分散方法以及分散技术的一些研究现状进行了综述,并分析了液相中DND分散技术存在的问题,提出了DND分散技术的研究方向。

爆轰纳米金刚石粒度分析研究

采用X射线衍射法、比表面分析法、X射线小角度散射法、扫描电镜法、动态光散射法对爆轰纳米金刚石的粒度进行分析,结果表明:采用不同分析方法得到的爆轰纳米金刚石粒度数据不尽相同,其中X射线小角度散射法、动态光散射法可准确测出爆轰纳米金刚石粒度分布,文章还阐述了各种粒度测试方法的优缺点及适用范围。

株洲新能源产业发展政策与对策研究

为创建'国家新能源示范城市',全力打造'株洲·中国动力谷',株洲市积极推进新能源汽车等产业发展,但还存在'企业多而不大、不强,某些项目推进速度不快,高镍三元正极材料有差距以及大部分动力电池依赖外购'等问题,要解决这些问题,可考虑以下政策与措施建议:实施'3254'新能源产业发展战略;抓好新能源产业项目建设;把握关键,做好动力电池;立行业标杆,创世界名牌;升级基础设施。

催化氧化盐酸浸出镍精矿中镍、钴的实验研究

在常压条件下,以O_2为氧化剂、CuCl_2为催化剂,采用催化氧化盐酸浸出工艺对Ni精矿中Ni、Co的浸出进行了研究。分别考察了浸出温度、浸出液酸度、氧化还原电位、Ni精矿粒度和催化剂浓度对Ni精矿中有价元素Ni、Co浸出率的影响。通过实验研究确定了催化氧化盐酸浸出Ni精矿的较优技术参数,在浸出时间180min,浸出温度90℃,浸出体系终点电位520mV,Ni精矿粒度<0.075 mm,搅拌转速600r/min,液固比4∶1,浸出酸度2.0 mol/L,Cu^(2+)浓度25g/L,NaCl浓度100g/L,O_2流量0.5~0.6L/min的条件下,Ni、Co浸出率分别为98.16%、93.32%。

水介质中纳米CeO_2的表面电性研究

为改善纳米CeO2在水介质中的稳定分散,在分析纳米CeO2各种性质的基础上,研究了介质pH值、无机电解质、阴离子表面活性剂对纳米CeO2表面电性的影响,并对分散机理进行了分析。结果表明:添加无机电解质可以显著降低碱性水介质中纳米CeO2的ζ电位,对于改善纳米CeO2在碱性区域内的稳定性有较好的效果。

表面活性剂组合使用对纳米金刚石在水介质中分散行为的影响

探讨了纳米金刚石在水介质中稳定分散的问题 ,利用粒度检测、光电子能谱、表面电性分析和红外光谱分析等手段 ,对表面活性剂的组合使用在纳米金刚石表面改性中的作用机理进行了讨论。研究发现 ,加入单一的表面活性剂往往不能使纳米金刚石在介质中稳定分散 ,而组合使用离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂 ,可以对纳米金刚石进行表面化学修饰改性 ,从而得到稳定分散的体系。

纳米金刚石硬团聚体的超细粉碎机械化学解聚研究

利用超细粉碎机械化学法进行了纳米金刚石硬团聚体的解聚研究 ,测试了 2种优化助磨剂对解聚的活化指数 ,分析了 2种助磨剂加入粉碎前后及随后化学机械分散处理成悬浮液后纳米金刚石表面官能团的变化和表面电性、最终悬浮液的粒度、粉碎前后纳米金刚石的晶体结构。最终制得了粒度分布 10 0nm以内、平均

复合镀用纳米金刚石悬浮液制备和复合镀铬研究

通过对市售纳米金刚石进行适当的机械化学改性、分散及分级,制得了复合镀用纳米金刚石悬浮液,悬浮液粒度分布在150nm以内,浓度可调,长期保持稳定,不含污染镀液成分;研究了标准镀铬液和添加表面活性剂镀铬液中的复合镀情况,测试了镀层的显微硬度和表面形貌,结果表明,标准镀液中加入纳米金刚石镀层,显微硬度反而降低,添加表面活性剂,镀液中的复合镀层显微硬度有较大提高,晶粒明显细化。

不同粒度纳米金刚石抛光微晶玻璃的研究

选用4种不同粒度的纳米金刚石抛光微晶玻璃,考察了纳米金刚石磨料的粒度对抛光速率和表面粗糙度的影响。采用AFM分析不同抛光表面的微观形貌,讨论了纳米金刚石与微晶玻璃的作用机制。结果表明:采用纳米金刚石抛光微晶玻璃可获得亚纳米级的表面粗糙度;随纳米金刚石粒度的降低,纳米金刚石的抛光速率减小,微晶玻璃表面平均粗糙度降低;微晶玻璃表面晶粒的不同断裂方式影响抛光后的表面粗糙度。

硬盘微晶玻璃基板的纳米金刚石抛光

应用经良好分散的纳米金刚石对硬盘微晶玻璃基板进行抛光,获得了亚纳米级表面(0.618nm)。分析了纳米金刚石抛光的行为,展望了纳米金刚石在超精密抛光领域的应用。

高职《硬质合金生产原理》项目化教学设计

本文基于WC-Co类硬质合金典型的生产工艺过程,设计了《硬质合金生产原理》教学目标,将教学内容设计为原辅材料的准备、混合料的生产、压制成型、压坯烧结、硬质合金性能检测等5个项目以及与项目化教学设计相匹配的考核方案。教学实践表明:项目化教学有助于将本专业学生培养成硬质合金企业的“准员工”,实施有差异的项目化教学是未来改进的方向。

计算机硬盘微晶玻璃基板抛光研究

计算机硬盘微晶玻璃基板的微观结构性能与化学成分都不连续，显微硬度非常高（900kg／mm^2～1000kg／mm^2），难以获得亚纳米级光滑表面。讨论了微晶玻璃基板结构性能、抛光机理、抛光工艺条件等因素对抛光效果的影响。结果表明，硬盘微晶玻璃基板的结晶相颗粒大小、玻璃相与结晶相的比例都会影响抛光表面质量；化学机械抛光引起玻璃相的优先抛除，该作用机理不适宜于微晶玻璃基板抛光。工艺条件中压力对微晶玻璃基板的表面粗糙度影响最大，抛光中需要维持合适的压力。选取合适的抛光条件，最终获得了粗糙度为0．208nm（AFM：5μm×5μm）的光滑表面。

稀土抛光粉废料再生利用试验研究

采用市售无机酸低温分解稀土抛光粉废料制备超精密稀土抛光粉,考察了无机酸种类与用量、反应温度、反应时间、浸出次数对稀土浸出效果的影响,检测了所制备稀土抛光粉粒度和化学成分,并分析了制备过程的反应机理。结果显示,在盐酸浓度37%、酸料质量比值3.5、反应温度98～103℃、一次浸出8h、二次浸出7h的条件下,稀土抛光粉废料经盐酸二次浸出后稀土浸出率高达99.23%;本工艺可制备出CeO_2含量67.64%、La_2O_3含量24.39%、F含量6.00%的超精密稀土抛光粉,该抛光粉平均粒度0.39μm,粒度分布均匀。

Ni-P-纳米金刚石化学复合镀研究

采用制备的粒度150nm以内的复合镀用纳米金刚石悬浮液进行了Ni-P-纳米金刚石化学复合镀研究，研究了工艺条件包括纳米金刚石加入量、搅拌方式、离子型和非离子型表面活性剂及其组合的加入对复合镀镀速和镀层性能的影响。结果表明：纳米化学复合镀要求镀液有更好的稳定性；镀速与搅拌方式有关．并且随纳米金刚石的加入而提高；组合型表面活性剂对复合镀层性能提高明显；表面形貌分析观察到镀层中纳米金刚石分布均匀．颗粒在100-200nm左右。