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题名磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入性能研究
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作者
付天佐
赵红
田振刚
李晓其
谢宛鋆
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机构
中核四〇四科学技术研究院
中核四〇四有限公司
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第14期139-145,共7页
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文摘
目的研究磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入对金属基体的保护效果。方法采用磁过滤电弧离子镀和离子注入在不锈钢表面分别制备了TiN薄膜与N注入改性层,以及二者的复合膜层。对薄膜的相结构、微观形貌进行了表征,对薄膜进行了极化曲线测试,同时在半球样品表面制备涂层并进行盐雾测试。结果所制备的TiN涂层为(111)晶面择优取向,离子注N预处理后沉积的TiN薄膜,仍保持(111)面的择优取向;电化学测试结果显示,TiN和N离子注入能够使不锈钢基体自腐蚀电位分别提高0.64、0.25 V,TiN薄膜具有最低的维钝电流密度4.9×10^(-6) A/cm^(2),N离子注入+TiN复合薄膜的维钝电流密度与N离子注入样品接近;盐雾试验结果表明,TiN以及N离子注入+TiN复合薄膜样品能够保证铜半球在12h的中性盐雾试验中无明显腐蚀痕迹。结论N离子注入预处理对MFAIPTiN涂层耐蚀性能的提升效果有限,单一的MFAIP TiN涂层便可应用于复杂形状的工程材料表面镀膜,可以增强其抗腐蚀能力,延长使用寿命。
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关键词
TIN
磁过滤电弧离子镀
N离子注入
腐蚀防护
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Keywords
TiN
magnetic filtered arc ion plating
N ion implantation
corrosion resistance
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分类号
TG174
[金属学及工艺—金属表面处理]
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