Ni-P合金和Ni-Co-P合金电沉积工艺优化及其性能

通过正交试验对紫铜表面电沉积Ni-P合金和Ni-Co-P合金的工艺条件进行优化,并采用扫描电镜、X射线衍射和电化学测试方法研究了所得镀层的表面形貌、晶体结构和耐蚀性。综合考虑镀层厚度和耐蚀性,电沉积Ni-P合金的较优条件为:pH 1.5,温度40℃,电流密度2.5 A/dm^(2),时间60 min;电沉积Ni-Co-P合金的较优条件为:pH 2,温度60℃,电流密度4.5 A/dm^(2),时间20 min。与Ni-P合金镀层相比,Ni-Co-P合金镀层更细致,表面更平整,耐蚀性更好。