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镀覆孔内镀铜异常原因分析与改善
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作者 谢慈育 宗高亮 +2 位作者 王扩军 李得志 冉光武 《印制电路信息》 2021年第11期31-34,共4页
文章针对PCB图形电镀工序二次铜电镀出现的通孔孔内铜异常,通过对各种影响因素的对比试验,得出了产生通孔电镀铜异常的影响因素,为二次铜电镀过程中出现的通孔镀铜异常提供改善和预防措施。
关键词 图形电镀 二次镀铜 镀铜异常
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高纵横比盲孔电镀铜填孔技术改进
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作者 夏海 谢慈育 +1 位作者 丁杰 郝意 《印制电路信息》 2018年第12期31-34,共4页
随着盲孔填孔产品及工艺的发展,越来越多的注意力被放在了高纵横比微盲孔的填孔技术开发上。目前高纵横比微盲孔填孔中经常出现包芯,面铜厚等问题。本文研究了通过特殊的分子结构设计以及工艺改进,极大的改善了高纵横比微盲孔的填孔表现。
关键词 盲孔填孔 高纵横比 电镀铜 添加剂
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