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GaAs/GaAlAs量子限制Stark效应及自电光双稳现象的实验研究 被引量:1
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作者 吴荣汉 段海龙 +6 位作者 曾一平 王启明 林世鸣 孔梅影 张权生 江德生 谢茂海 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第9期659-663,共5页
我们研制了GaAs/GaAlAs多量子阱pin结构的SEED器件。分析了器件的光电流光谱、光电流-电压特性。对于如何实现器件光学双稳态工作的有关问题进行了讨论。
关键词 自电光效应 多量子阱器件 光双稳
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消除边缘区效应的“三脉冲DLTS”法及对DX-中心俘获过程的测量
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作者 谢茂海 高季林 +1 位作者 葛惟锟 周洁 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第1期1-6,共6页
本文提出了一种新的方法──“三脉冲DLTS”法,用于测量深能级的热俘获截面,目的在于消除使测量产生很大误差的边缘区效应的影响,最后用这种方法,对AlGaAs:Si中DX—中心的电子热俘获截面进行了测量,结合考虑大的深能级浓度这一因素,通... 本文提出了一种新的方法──“三脉冲DLTS”法,用于测量深能级的热俘获截面,目的在于消除使测量产生很大误差的边缘区效应的影响,最后用这种方法,对AlGaAs:Si中DX—中心的电子热俘获截面进行了测量,结合考虑大的深能级浓度这一因素,通过计算机的拟合过程,给出了非常令人满意的结果。 展开更多
关键词 深能级 DX-中心 半导体 俘获过程
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量子阱中δ掺杂的光谱特性
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作者 徐仲英 谢茂海 +2 位作者 徐强 郑宝真 孔梅影 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第4期316-318,共3页
用δ掺杂的方法实现了Be受主在量子阱边界和阱中央的分布,并用光致发光实验证实了这种掺杂的实际效果。第一次用人为的实验方法证实了量子阱中杂质态密度分布的有关理论计算结果。
关键词 量子阱 掺杂 光谱特性 半导体材料
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Si(111)-(3^(1/2)×3^(1/2))R30°-Ga表面原子结构
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作者 邓丙成 徐耕 +3 位作者 陈文华 何永健 谢茂海 唐叔贤 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期427-430,共4页
利用自动张量低能电子衍射 (ATL EED)定量地研究 Si(111) - (3× 3) R30°- Ga重构表面的原子结构 .证实了 Ga原子吸附在 T4位即第二层 Si原子所对的空位上 ,同时给出了表面最顶层 7个原子层的详细坐标 .可靠性因子 RVHT=0 .14... 利用自动张量低能电子衍射 (ATL EED)定量地研究 Si(111) - (3× 3) R30°- Ga重构表面的原子结构 .证实了 Ga原子吸附在 T4位即第二层 Si原子所对的空位上 ,同时给出了表面最顶层 7个原子层的详细坐标 .可靠性因子 RVHT=0 .143表明理论计算和实验符合得非常好 . 展开更多
关键词 表面 原子结构 电子衍射 重构 半导体
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Molecular-beam epitaxy of topological insulator Bi_2Se_3(111) and (221) thin films 被引量:1
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作者 谢茂海 郭欣 +1 位作者 徐忠杰 何永健 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第6期91-98,共8页
This paper presents an overview of the growth of Bi2Se3, a prototypical three-dimensional topological insulator, by molecular-beam epitaxy on various substrates. Comparison is made between the growth of Bi2 Se3 (111... This paper presents an overview of the growth of Bi2Se3, a prototypical three-dimensional topological insulator, by molecular-beam epitaxy on various substrates. Comparison is made between the growth of Bi2 Se3 (111) on van der Waals (vdW) and non-vdW substrates, with attention paid to twin suppression and strain. Growth along the [221] direction of Bi2Se3 on InP (001) and GaAs (001) substrates is also discussed. 展开更多
关键词 topological insulator molecular-beam epitaxy Bi2Se3 twin domain STRAIN
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分子束外延GaAs/AlGaAs材料及应用
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作者 曾一平 孔梅影 +7 位作者 孙殿照 段维新 谢茂海 李立康 梁基本 郑海群 朱世荣 黄运衡 《半导体情报》 1991年第6期4-6,共3页
利用国产MBE设备,我们研制了多种多用途的GaAs/AlGaAs器件结构材料,并制作出GaAs/AlGaAs量子阱激光器、GaAs/GaAlAs自电光效应器件(SEED)、GaAs/AlGaAs HEMT等多种器件。
关键词 分子束外延 GAAS/ALGAAS 半导体
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优质GaAs/Si材料的研制
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作者 梁基本 孔梅影 +5 位作者 段维新 朱战萍 谢茂海 朱世荣 曾一平 张学渊 《半导体情报》 1991年第6期15-16,共2页
用国产分子束外延设备(Ⅳ型)在p型Si衬底上用三阶段生长法生长出优质GaAs外延层。测试样品为2μm厚,n型掺杂浓度5×10^(16)cm^(-3)。测量结果为x射线双晶衍射回摆曲线半峰宽225弧秒;低温光荧光谱半峰宽在10K时为5meV,外延层表面位... 用国产分子束外延设备(Ⅳ型)在p型Si衬底上用三阶段生长法生长出优质GaAs外延层。测试样品为2μm厚,n型掺杂浓度5×10^(16)cm^(-3)。测量结果为x射线双晶衍射回摆曲线半峰宽225弧秒;低温光荧光谱半峰宽在10K时为5meV,外延层表面位错密度10~6cm^(-2)。 展开更多
关键词 分子束外延 GAAS/SI 异质结
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浅谈企业薪酬管理
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作者 谢茂海 《中国电子商务》 2012年第9期121-121,123,共2页
21世纪的今天,随着市场经济的发展,人力资源被越来越多的企业作为其核心竞争力的关键和竞争优势的源泉。如何获得人才、用好人才成为企业界的难题。其中最为复杂和固难的就是企业如何作好员工的激励,一个企业能否建立完善的激励机制... 21世纪的今天,随着市场经济的发展,人力资源被越来越多的企业作为其核心竞争力的关键和竞争优势的源泉。如何获得人才、用好人才成为企业界的难题。其中最为复杂和固难的就是企业如何作好员工的激励,一个企业能否建立完善的激励机制,将直接影响到其生存与发展。激励是企业管理的核心,而薪酬激励又是企业激励机制中最重要的激励手段,是目前企业普遍采用的一种有效的激励手段。薪酬管理在现代市场经济中已成为各国企业人力资源管理的重要环节,对企业的竞争能力有巨大影响。 展开更多
关键词 人力资源 人才掌控 薪酬管理 企业发展 激励手段 市场经济
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Charge Density Wave States in 2H-MoTe2 Revealed by Scanning Tunneling Microscopy
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作者 董璐 王观勇 +9 位作者 朱朕 赵晨晓 杨心怡 李爱民 陈惊雷 管丹丹 李耀义 郑浩 谢茂海 贾金锋 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第6期54-57,共4页
2H-and 1T′-phase monolayer MoTe2 films on highly oriented pyrolytic graphite are studied using scanning tunneling microscopy and spectroscopy(STM/STS).The phase transition of MoTe2 can be controlled by a postgrowth... 2H-and 1T′-phase monolayer MoTe2 films on highly oriented pyrolytic graphite are studied using scanning tunneling microscopy and spectroscopy(STM/STS).The phase transition of MoTe2 can be controlled by a postgrowth annealing process,and the intermediate state during the phase transition is directly observed by STM.For 2H-MoTe2,inversion domain boundaries are presented as bright lines at high sample bias,but as dark lines at lower sample bias.The dI/dV mappings reveal the distinct distributions of electronic states between domain boundaries and interiors of domains.It sihould be noted that a 2×2 periodic structure is clearlfy discernable inside the domains,where the STS measurement shows a small dip of size~150 meV at the vicinity of the Fermi level,indicating that the 2×2 periodic structure may be an incommensurate charge density wave.Moreover,a4×4 periodic structure appears in 2H-MoTe2 grown at a higher substrate temperature. 展开更多
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Nitrogen Adatom Diffusion on a Ga-Rich GaN (0001) Surface
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作者 戴宪起 吴华生 +2 位作者 谢茂海 徐世红 唐叔贤 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2004年第3期527-529,共3页
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ATLEED研究6H-SiC(0001)(3^(0.5)×3^(0.5))R30°重构表面 被引量:4
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作者 邓丙成 陈滢 +4 位作者 徐耕 陈文华 何永健 谢茂海 唐叔贤 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期106-110,共5页
低能电子衍射 (LEED)对 6H SiC(0 0 0 1) (3× 3)R30°表面的研究结果表明 ,该表面有 1/3单层的Si原子吸附在T4 空位上与第一个SiC复合层中的三个Si原子键接 ,它们之间的垂直距离为 0 171nm .通过对该表面 10个非等价垂直入... 低能电子衍射 (LEED)对 6H SiC(0 0 0 1) (3× 3)R30°表面的研究结果表明 ,该表面有 1/3单层的Si原子吸附在T4 空位上与第一个SiC复合层中的三个Si原子键接 ,它们之间的垂直距离为 0 171nm .通过对该表面 10个非等价垂直入射衍射束的自动张量低能电子衍射 (ATLEED)计算 ,得到“最佳结构”由于表面SiC复合层堆积顺序不同而产生的三种表面终止状态 (surfacetermination)的混合比例为S1∶S2∶S3 =15∶15∶70 ,理论计算与实验I V曲线比较得到可靠性因子RVHT=0 .16 5 ,RP=0 .142 。 展开更多
关键词 表面重构 表面终止状态 LEED 碳化硅 半导体
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