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磁控溅射铂抑制镀银表面的二次电子发射 被引量:4
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作者 何鋆 俞斌 +5 位作者 王琪 白春江 杨晶 胡天存 谢贵柏 崔万照 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第8期206-212,共7页
降低表面的二次电子产额是抑制微波部件二次电子倍增效应和提升功率阈值的有效途径之一,目前主要采用在表面构造陷阱结构和沉积非金属薄膜的方法降低二次电子产额,其缺点是会改变部件的电性能.针对此问题,采用在表面沉积高功函数且化学... 降低表面的二次电子产额是抑制微波部件二次电子倍增效应和提升功率阈值的有效途径之一,目前主要采用在表面构造陷阱结构和沉积非金属薄膜的方法降低二次电子产额,其缺点是会改变部件的电性能.针对此问题,采用在表面沉积高功函数且化学惰性的金属薄膜来降低二次电子产额.首先,采用磁控溅射方法在铝合金镀银样片表面沉积100 nm铂,测量结果显示沉积铂后样片的二次电子产额最大值由2.40降至1.77,降幅达26%.其次,用相关唯象模型对二次电子发射特性测量数据进行了拟合,获得了在40-1500 eV能量范围内能够准确描述样片二次电子产额特性的Vaughan模型参数,以及在0-50 eV能量范围内能够很好地拟合二次电子能谱曲线的Chung-Everhart模型参数.最后,将获得的实验数据和相关拟合参数用于Ku频段阻抗变换器的二次电子倍增效应功率阈值仿真研究,结果表明通过沉积铂可将部件的功率阈值由7500 W提升至36000 W,证实了所提方法的有效性.研究结果为金属材料二次电子发射特性的研究提供实验数据参考,对抑制大功率微波部件二次电子倍增效应具有参考价值. 展开更多
关键词 二次电子产额 二次电子倍增效应 金属薄膜
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大功率铁磁性微波部件微放电演变机理与抑制 被引量:3
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作者 李韵 封国宝 +4 位作者 谢贵柏 苗光辉 李小军 崔万照 贺永宁 《强激光与粒子束》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期29-34,共6页
铁氧体环行器是承载航天器微波系统大功率的关键器件,其大功率微放电效应是影响航天器在轨安全、可靠运行的瓶颈问题。从影响微放电效应的关键因素--二次电子发射特性出发,提出铁磁性微波部件微放电效应物理演变模型,揭示了铁磁性微波... 铁氧体环行器是承载航天器微波系统大功率的关键器件,其大功率微放电效应是影响航天器在轨安全、可靠运行的瓶颈问题。从影响微放电效应的关键因素--二次电子发射特性出发,提出铁磁性微波部件微放电效应物理演变模型,揭示了铁磁性微波部件内部初始自由电子与二次电子运动的空间规律;通过改变铁磁性微波部件表面二次电子发射特性,揭示了铁磁性微波部件抗微放电优化设计的物理原理。在S频段铁氧体环行器中验证了基于表面二次电子发射特性的微放电效应抑制,将器件的微放电阈值从380 W提高至3400 W以上,提升效率大于900%。 展开更多
关键词 星载 铁氧体环行器 微放电 抑制 演变机理
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海南岛、台湾岛河流水化学比较研究 被引量:9
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作者 陈静生 陈梅 谢贵柏 《地理学报》 EI CSSCI CSCD 北大核心 1992年第5期403-409,共7页
本文对我国两大岛屿——海南岛和台湾岛河流的主要离子化学及河流的物理和化学侵蚀率进行了比较研究,对两岛河流水化学的共同点和差异及其成因进行了探讨。研究表明,无论是河水离子总量,还是物理侵蚀率和化学侵蚀率,台湾岛均显著地高于... 本文对我国两大岛屿——海南岛和台湾岛河流的主要离子化学及河流的物理和化学侵蚀率进行了比较研究,对两岛河流水化学的共同点和差异及其成因进行了探讨。研究表明,无论是河水离子总量,还是物理侵蚀率和化学侵蚀率,台湾岛均显著地高于海南岛。两岛河水中氯离子含量、物理侵蚀率和化学侵蚀率均为东部水系高于西部水系。 展开更多
关键词 海南岛 台湾岛 水化学 河流
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海南岛现代侵蚀作用及其与台湾岛和夏威夷群岛的比较 被引量:10
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作者 陈静生 谢贵柏 李远辉 《第四纪研究》 CAS CSCD 1991年第4期289-299,共11页
本文根据1959—1988年水文和水质资料计算了海南岛河流多年平均物理侵蚀率(13.99mg/cm^2·a)和化学侵蚀率(15.97mg/cm^2·a)。此二值大大低于台湾岛河流侵蚀率的数值,主要原因是“台湾岛自上新世以来一直处于迅速上升运动中”... 本文根据1959—1988年水文和水质资料计算了海南岛河流多年平均物理侵蚀率(13.99mg/cm^2·a)和化学侵蚀率(15.97mg/cm^2·a)。此二值大大低于台湾岛河流侵蚀率的数值,主要原因是“台湾岛自上新世以来一直处于迅速上升运动中”。夏威夷群岛河流的物理侵蚀率和化学侵蚀率很低,但由于那里的玄武岩孔隙的渗透性强,其地下水的化学侵蚀率较高,所以地表水和地下水的总化学侵蚀率与海南岛相比不相上下。 展开更多
关键词 河流 侵蚀率 化学侵蚀 物理侵蚀
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Fano Resonance Enabled Infrared Nano-Imaging of Local Strain in Bilayer Graphene 被引量:2
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作者 Jing Du Bosai Lyu +11 位作者 Wanfei Shan Jiajun Chen Xianliang Zho u Jingxu Xie Aolin Deng Cheng Hu Qi Liang Guibai Xie Xiaojun Li Weidong Luo Zhiwen Shi 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2021年第5期60-66,共7页
Detection of local strain at the nanometer scale with high sensitivity remains challenging.Here we report near-field infrared nano-imaging of local strains in bilayer graphene by probing strain-induced shifts of phono... Detection of local strain at the nanometer scale with high sensitivity remains challenging.Here we report near-field infrared nano-imaging of local strains in bilayer graphene by probing strain-induced shifts of phonon frequency.As a non-polar crystal,intrinsic bilayer graphene possesses little infrared response at its transverse optical phonon frequency.The reported optical detection of local strain is enabled by applying a vertical electrical field that breaks the symmetry of the two graphene layers and introduces finite electrical dipole moment to graphene phonon.The activated phonon further interacts with continuum electronic transitions,and generates a strong Fano resonance.The resulted Fano resonance features a very sharp near-field infrared scattering peak,which leads to an extraordinary sensitivity of-0.002%for the strain detection.Our results demonstrate the first nano-scale near-field Fano resonance,provide a new way to probe local strains with high sensitivity in non-polar crystals,and open exciting possibilities for studying strain-induced rich phenomena. 展开更多
关键词 RED image Fano Resonance Enabled Infrared Nano-Imaging of Local Strain in Bilayer Graphene
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Characteristics of secondary electron emission from few layer graphene on silicon(111) surface 被引量:1
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作者 Guo-Bao Feng Yun Li +2 位作者 Xiao-Jun Li Gui-Bai Xie Lu Liu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第10期549-562,共14页
As a typical two-dimensional(2D) coating material, graphene has been utilized to effectively reduce secondary electron emission from the surface. Nevertheless, the microscopic mechanism and the dominant factor of seco... As a typical two-dimensional(2D) coating material, graphene has been utilized to effectively reduce secondary electron emission from the surface. Nevertheless, the microscopic mechanism and the dominant factor of secondary electron emission suppression remain controversial. Since traditional models rely on the data of experimental bulk properties which are scarcely appropriate to the 2D coating situation, this paper presents the first-principles-based numerical calculations of the electron interaction and emission process for monolayer and multilayer graphene on silicon(111) substrate. By using the anisotropic energy loss for the coating graphene, the electron transport process can be described more realistically. The real physical electron interactions, including the elastic scattering of electron-nucleus, inelastic scattering of the electron-extranuclear electron, and electron-phonon effect, are considered and calculated by using the Monte Carlo method. The energy level transition theory-based first-principles method and the full Penn algorithm are used to calculate the energy loss function during the inelastic scattering. Variations of the energy loss function and interface electron density differences for 1 to 4 layer graphene coating Go Si are calculated, and their inner electron distributions and secondary electron emissions are analyzed. Simulation results demonstrate that the dominant factor of the inhibiting of secondary electron yield(SEY) of Go Si is to induce the deeper electrons in the internal scattering process. In contrast, a low surface potential barrier due to the positive deviation of electron density difference at monolayer Go Si interface in turn weakens the suppression of secondary electron emission of the graphene layer. Only when the graphene layer number is 3, does the contribution of surface work function to the secondary electron emission suppression appear to be slightly positive. 展开更多
关键词 secondary electron emission graphene on silicon numerical simulation
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