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Ge衬底上的Ⅱ-Ⅵ族化合物MBE生长研究
1
作者
钟建国
谢钦熙
+2 位作者
张恕明
乔怡敏
袁诗鑫
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990年第9期680-687,共8页
本文报道了单晶ZnSe、ZnTe和CdTe薄膜在Ge(100)衬底上的MBE生长,用RHEED观察了其生长规律,并对样品作了X光衍射及SIMS等测试分析。观察到衬底与外延层之间存在晶向偏角。对这一现象进行了理论解释。
关键词
2-4族化合物
外延生长
MBE
Ge衬底
下载PDF
职称材料
题名
Ge衬底上的Ⅱ-Ⅵ族化合物MBE生长研究
1
作者
钟建国
谢钦熙
张恕明
乔怡敏
袁诗鑫
机构
中国科学院上海技术物理研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990年第9期680-687,共8页
文摘
本文报道了单晶ZnSe、ZnTe和CdTe薄膜在Ge(100)衬底上的MBE生长,用RHEED观察了其生长规律,并对样品作了X光衍射及SIMS等测试分析。观察到衬底与外延层之间存在晶向偏角。对这一现象进行了理论解释。
关键词
2-4族化合物
外延生长
MBE
Ge衬底
Keywords
Ⅱ-Ⅵ compound
MBE
RHEED
SIMS
X-ray diffraction
Misoriented angle
分类号
TN304.25 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Ge衬底上的Ⅱ-Ⅵ族化合物MBE生长研究
钟建国
谢钦熙
张恕明
乔怡敏
袁诗鑫
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990
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