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Ge衬底上的Ⅱ-Ⅵ族化合物MBE生长研究
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作者 钟建国 谢钦熙 +2 位作者 张恕明 乔怡敏 袁诗鑫 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第9期680-687,共8页
本文报道了单晶ZnSe、ZnTe和CdTe薄膜在Ge(100)衬底上的MBE生长,用RHEED观察了其生长规律,并对样品作了X光衍射及SIMS等测试分析。观察到衬底与外延层之间存在晶向偏角。对这一现象进行了理论解释。
关键词 2-4族化合物 外延生长 MBE Ge衬底
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