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电子后视镜延时与ISO标准分析及探讨 被引量:1
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作者 郭志友 邓蚁 +2 位作者 姜伟 梅云 谢长鑫 《汽车实用技术》 2023年第13期202-206,共5页
作为汽车视野装置的电子后视镜(CMS)已经被应用,并颠覆了传统物理后视镜的理念,使视觉性能得到明显提升,其中系统延时是其重要技术指标,对于制造企业也提出了全新挑战。文章结合CMS硬件电路和软件图像处理固有特性,阐述了不同系统延时... 作为汽车视野装置的电子后视镜(CMS)已经被应用,并颠覆了传统物理后视镜的理念,使视觉性能得到明显提升,其中系统延时是其重要技术指标,对于制造企业也提出了全新挑战。文章结合CMS硬件电路和软件图像处理固有特性,阐述了不同系统延时对汽车行驶状况影响,同时分析了CMS延时产生的原因以及解决途径,结果显示,CMS延时的最佳范围为33.33~43.33 ms。 展开更多
关键词 CMS延时 ISO标准 距离差 CMOS图像传感器 17.78 cm(7寸)显示屏
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单脉冲纳秒激光诱导硅表面微结构 被引量:4
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作者 谢长鑫 李晓红 +2 位作者 朱敏 杨永佳 邱荣 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第11期203-209,共7页
利用Nd:YAG纳秒脉冲激光(波长532nm)在空气中对单晶硅表面进行单脉冲辐照,研究了激光能量密度和光斑面积变化对微结构的影响。通过场发射扫描电子显微镜和原子力显微镜(AFM)对样品表征,并对纳秒激光辐照硅的热力学过程进行分析。结果显... 利用Nd:YAG纳秒脉冲激光(波长532nm)在空气中对单晶硅表面进行单脉冲辐照,研究了激光能量密度和光斑面积变化对微结构的影响。通过场发射扫描电子显微镜和原子力显微镜(AFM)对样品表征,并对纳秒激光辐照硅的热力学过程进行分析。结果显示:当脉冲激光的能量密度接近硅的熔融阈值且光斑直径小于8μm时,形成尖峰微结构;随着能量密度或光斑面积增大,尖峰结构消失,形成边缘隆起和弹坑微结构。通过流体动力学模型得到微结构形貌的解析解,模拟得到的微结构形貌与实验测得的AFM数据一致。研究表明微结构的形成主要是由于表面张力引起的熔融硅流动。表面张力与表面温度和表面活性剂的质量浓度有关。温度梯度引起的热毛细流作用和表面活性剂浓度引起的毛细作用共同影响下形成尖峰、边缘隆起和弹坑微结构。 展开更多
关键词 纳秒激光 单晶硅 微结构 表面张力
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飞秒脉冲激光辐照下硅表面光致荧光特性(英文) 被引量:2
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作者 朱敏 李晓红 +3 位作者 谢长鑫 常利阳 杨永佳 邱荣 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期151-156,共6页
采用钛宝石飞秒脉冲激光对单晶硅在空气中进行辐照,研究了硅表面在不同扫描速度和能量密度下的光致荧光特性。光致荧光谱(PL)测量表明,在样品没有退火处理的情况下,激光扫描区域观察到橙色荧光峰(603nm)和红色荧光带(680nm附近)。扫描... 采用钛宝石飞秒脉冲激光对单晶硅在空气中进行辐照,研究了硅表面在不同扫描速度和能量密度下的光致荧光特性。光致荧光谱(PL)测量表明,在样品没有退火处理的情况下,激光扫描区域观察到橙色荧光峰(603nm)和红色荧光带(680nm附近)。扫描电子显微镜(SEM)测量显示,在飞秒脉冲激光辐照硅样品的过程中硅表面沉积了大量的纳米颗粒。利用傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)检测到了低值氧化物SiOx(x<2)的存在,并且结合能谱仪(EDS)检测结果发现氧元素在光致发光中起着重要作用。研究表明:603nm处橙色荧光峰来自微构造硅表面低值氧化物SiOx,680nm附近红色荧光带来自量子限制效应。同时样品表面硅纳米颗粒的尺寸和氧元素的浓度分别决定了红色荧光带和橙色荧光的强度,通过调节飞秒激光脉冲的扫描速度和能量密度,可以有效地控制样品的荧光强度。 展开更多
关键词 飞秒脉冲激光 单晶硅 微构造 光致荧光特性
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飞秒脉冲激光辐照对硅发光性能的影响 被引量:4
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作者 朱敏 李晓红 +5 位作者 李国强 常利阳 谢长鑫 邱荣 李家文 黄文浩 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期379-386,共8页
利用飞秒脉冲激光对单晶硅进行辐照,研究了在不同环境(纯水和空气)和能量密度条件下激光刻蚀过后硅片的光致荧光特性.对于辐照后的硅片,利用了场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)、傅里叶红外光谱仪(FT-IR)、光致荧光光谱仪(PL)... 利用飞秒脉冲激光对单晶硅进行辐照,研究了在不同环境(纯水和空气)和能量密度条件下激光刻蚀过后硅片的光致荧光特性.对于辐照后的硅片,利用了场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)、傅里叶红外光谱仪(FT-IR)、光致荧光光谱仪(PL)进行表征.结果显示:在空气中样品表面形成了条纹状微结构,纯水中硅片表面生成了尺寸更小的珊瑚状微结构;激光刻蚀后在硅片表面的生成物主要是SiOx(x<2),在纯水中处理后硅片氧元素的含量接近是空气中的4倍;傅里叶变换红外透射谱中主要为Si—Si键(610 cm-1)和Si—O—Si键(1105 cm-1)的振动;在空气和纯水中激发出的荧光均为蓝光(420—470 nm),在各自最佳激发波长下,纯水中荧光强度比空气中强2到3倍,但是在可见光范围内荧光峰的位置和形状都基本没有发生变化.研究表明:氧元素在光致发光增强上起着重要作用,光致发光最主要是由形成的氧缺陷SiOx(x<2)导致的,生成低值氧化物SiOx的多少决定了发光的强弱. 展开更多
关键词 飞秒脉冲激光 单晶硅 光致发光 氧缺陷SiOx
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空气中和水下激光等离子体冲击波对硅表面形貌的影响 被引量:3
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作者 周子豪 李晓红 +2 位作者 谢长鑫 朱敏 冯杰 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2015年第10期219-225,共7页
利用Nd:YAG纳秒脉冲激光(波长为532nm)分别在空气中和水下对单晶硅进行单脉冲辐照,研究了在介质/硅片界面产生的激光等离子冲击波对硅表面形貌的影响。通过压电传感器对辐照过程中冲击波力学信号进行采集,利用扫描电子显微镜(SE... 利用Nd:YAG纳秒脉冲激光(波长为532nm)分别在空气中和水下对单晶硅进行单脉冲辐照,研究了在介质/硅片界面产生的激光等离子冲击波对硅表面形貌的影响。通过压电传感器对辐照过程中冲击波力学信号进行采集,利用扫描电子显微镜(SEM)对辐照后的硅片进行表征。结果表明:在相同能量强度下,水下辐照硅表面所产生的冲击波平均速度为空气中的1.5~2倍,力学强度约为空气中的10倍;水下硅表面的熔坑中心处出现了许多凸起的球状物以及下凹的孔洞,边缘处没有沉积物且具有波纹状结构,而空气中硅表面熔坑中心处较为光滑,边缘处具有一圈圈的沉积物。研究表面,在介质/硅片界面产生等离子冲击波所引起的热-力学效应是硅表面形貌形成的主要原因。与空气介质相比,在水下由于水的约束作用而引起更大的冲击波力学强度,以及由于水的存在而发生爆发式沸腾的热学现象共同导致了在水下和空气中硅表面形成了截然不同的形貌。 展开更多
关键词 激光技术 材料 激光等离子体 冲击波 单晶硅 表面形貌
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