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题名异质栅介质双栅隧穿场效应晶体管TCAD仿真研究
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作者
谭淏升
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机构
上海电力大学电子与信息工程学院
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出处
《上海电力大学学报》
CAS
2024年第1期45-50,共6页
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文摘
采用异质栅介质结构,加入高k介质Pocket区,对双栅隧穿场效应晶体管进行了改进。通过搭建不同模型,分析了栅介质的长度、介电常数以及Pocket区厚度等参数对器件开态电流Ion、双极性特性、亚阈值摆幅等的影响。TACD仿真结果表明,Ion随介电常数的增大可提升至5.17×10-5A/μm,且双极性电流也有极大的增幅,亚阈值摆幅因开态电流的改善降低至28.3 mV/dec,而异质栅介质的不同长度对器件性能并无明显影响;在双极性上,Pocket区厚度的增加使得栅漏隧穿宽度增大,双极性电流减小至1.0×10-17A/μm,抑制了双极性导通,同时对器件其他特性未产生明显影响。
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关键词
异质栅介质
高k介质Pocket区
隧穿场效应晶体管
TCAD仿真
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Keywords
heterogeneous gate dielectric
High-k Pocket
tunnel field effect transistor
TCAD simulation
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分类号
TM23
[一般工业技术—材料科学与工程]
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