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钴铬钼合金磁流变抛光工艺研究 被引量:3
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作者 孙宝玉 于丙金 +2 位作者 谭鸿强 袁德禄 谷岩 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第10期310-320,共11页
目的去除难加工材料钴铬钼合金车削后形成的规则性螺旋刀痕并获得超光滑表面。方法采用磁流变抛光方法,对车削后的钴铬钼合金表面进行抛光加工。研究了磁体排布方式、加工间隙、抛光装置、转速和磨料粒径等工艺参数对钴铬钼合金表面形... 目的去除难加工材料钴铬钼合金车削后形成的规则性螺旋刀痕并获得超光滑表面。方法采用磁流变抛光方法,对车削后的钴铬钼合金表面进行抛光加工。研究了磁体排布方式、加工间隙、抛光装置、转速和磨料粒径等工艺参数对钴铬钼合金表面形貌和表面粗糙度的影响规律,寻找获得超光滑表面的工艺参数组合,并对抛光后的钴铬钼合金表面使用表面轮廓仪进行测量。结果钴铬钼合金表面形貌受各方面因素的综合影响,双磁体异向排布的磁通密度向工件集中,使得磁性羰基铁颗粒与金刚石磨料在抛光过程中结合力更强,增大了有效工作区域;表面粗糙度随着加工间隙的增加(从1 mm增大到4 mm)先减小后增大,在2 mm时得到优化的加工效果;表面粗糙度随着抛光装置转速的增加(从400 r·min^(–1)增大到1000 r·min^(–1))先减小后增大,在600 r·min^(–1)时得到优化的加工效果;相比于0.5、1.5、2.5μm粒径的金刚石磨料,使用2μm的金刚石磨料进行抛光时表面粗糙度最小。当使用双磁体异向排布,在工作间隙为2 mm、抛光装置转速为600 r·min^(–1)、金刚石磨料粒径为2μm的工艺参数组合下对钴铬钼合金采用磁流变抛光加工120 min时,其表面粗糙度从初始的640 nm降低至5 nm。结论应用磁流变抛光方法抛光钴铬钼合金可以得到超光滑表面。 展开更多
关键词 磁流变抛光 钴铬钼合金 磁通密度 抛光参数 表面粗糙度
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