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InAlN薄膜MOCVD外延生长研究
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作者 贠利君 魏同波 +3 位作者 刘乃鑫 闫建昌 王军喜 李晋闽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第8期609-613,638,共6页
为了研究不同压力和不同模板对InA lN薄膜外延生长的影响,分别选取以GaN为模板时生长压力为4.00、6.67和13.33 kPa,压力为4.00 kPa时模板为GaN和A lN这两组条件进行实验比较。研究发现,随着生长压力的增加,样品中In含量降低,样品的粗糙... 为了研究不同压力和不同模板对InA lN薄膜外延生长的影响,分别选取以GaN为模板时生长压力为4.00、6.67和13.33 kPa,压力为4.00 kPa时模板为GaN和A lN这两组条件进行实验比较。研究发现,随着生长压力的增加,样品中In含量降低,样品的粗糙度则随压力的增加而增大;压力为4.00 kPa时,分别以摇摆曲线半高宽(FWHM)为86.97″的A lN和224.1″的GaN为模板,发现A lN模板上生长的InA lN样品(002)和(102)峰的FWHM值及表面粗糙度比上述GaN为模板生长的InA lN样品都要小很多。综合以上结果可初步得知:降低压力可以优化InA lN薄膜的表面形貌,增加In组分含量;采用高质量的A lN作模板能生长出晶体质量和表面形貌都比较好的InA lN薄膜。 展开更多
关键词 压力 模板 AIInN薄膜 粗糙度 晶体质量
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MOCVD epitaxy of InAlN on different templates 被引量:1
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作者 贠利君 魏同波 +3 位作者 闫建昌 刘喆 王军喜 李晋闽 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第9期24-28,共5页
InAlN epilayers were grown on high quality GaN and A1N templates with the same growth parameters. Measurement results showed that two samples had the same In content of~16%,while the crystal quality and surface topog... InAlN epilayers were grown on high quality GaN and A1N templates with the same growth parameters. Measurement results showed that two samples had the same In content of~16%,while the crystal quality and surface topography of the InAlN epilayer grown on the AlN template,with 282.3"(002) full width at half maximum (FWHM) of rocking curve,313.5"(102) FWHM,surface roughness of 0.39 nm and V-pit density of 2.8×10~8 cm^(-2),were better than that of the InAlN epilayer grown on the GaN template,309.3",339.1",0.593 nm and 4.2×10~8 cm^(-2).A primary conclusion was proposed that both the crystal quality and the surface topography of the InAlN epilayer grown on the AlN template were better than that of the InAlN epilayer grown on the GaN template. Therefore,the AlN template was a better choice than the GaN template for getting high quality InAlN epilayers. 展开更多
关键词 INALN EPILAYER TEMPLATE crystal quality surface topography
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