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表面活性剂在IC芯片光刻工艺中的应用
被引量:
2
1
作者
贺开矿
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第3期24-26,共3页
叙述了表面活性剂的性质、分类、分子结构特点,重点介绍了表面活性剂在光刻工艺的涂胶、显影、湿刻工序中的应用。适当加入表面活性剂,在现有设备的条件下可极大地提高光刻质量,对双极电路以及C M O S 电路制作都有着重要的现实意义。
关键词
表面活性剂
表面张力
光刻
显影
湿法腐蚀
下载PDF
职称材料
JT—1型晶体管图示仪的改良—将扫描电压扩充到1000V...
2
作者
贺开矿
霍桂平
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
1990年第4期48-51,共4页
关键词
晶体管
图示仪
测试
高耐压
下载PDF
职称材料
题名
表面活性剂在IC芯片光刻工艺中的应用
被引量:
2
1
作者
贺开矿
机构
杭州士兰集成电路有限公司
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第3期24-26,共3页
文摘
叙述了表面活性剂的性质、分类、分子结构特点,重点介绍了表面活性剂在光刻工艺的涂胶、显影、湿刻工序中的应用。适当加入表面活性剂,在现有设备的条件下可极大地提高光刻质量,对双极电路以及C M O S 电路制作都有着重要的现实意义。
关键词
表面活性剂
表面张力
光刻
显影
湿法腐蚀
Keywords
surfactant
surface tension
optical lithography
development
wet etching
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
JT—1型晶体管图示仪的改良—将扫描电压扩充到1000V...
2
作者
贺开矿
霍桂平
出处
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
1990年第4期48-51,共4页
关键词
晶体管
图示仪
测试
高耐压
分类号
TN320.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
表面活性剂在IC芯片光刻工艺中的应用
贺开矿
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2005
2
下载PDF
职称材料
2
JT—1型晶体管图示仪的改良—将扫描电压扩充到1000V...
贺开矿
霍桂平
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
1990
0
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