期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
表面活性剂在IC芯片光刻工艺中的应用 被引量:2
1
作者 贺开矿 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期24-26,共3页
叙述了表面活性剂的性质、分类、分子结构特点,重点介绍了表面活性剂在光刻工艺的涂胶、显影、湿刻工序中的应用。适当加入表面活性剂,在现有设备的条件下可极大地提高光刻质量,对双极电路以及C M O S 电路制作都有着重要的现实意义。
关键词 表面活性剂 表面张力 光刻 显影 湿法腐蚀
下载PDF
JT—1型晶体管图示仪的改良—将扫描电压扩充到1000V...
2
作者 贺开矿 霍桂平 《电力电子技术》 CSCD 北大核心 1990年第4期48-51,共4页
关键词 晶体管 图示仪 测试 高耐压
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部