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“J—646”新型光学光敏胶胶合工艺简介
被引量:
1
1
作者
赵嗣华
孙家平
范纪尧
《光学技术》
CAS
CSCD
1991年第5期43-45,共3页
“J—646”光敏胶具有透光率好,收缩率小,粘接强度适中,耐老化,毒性小和成本低廉等特点。本文简要介绍了该胶的胶合工艺。
关键词
光敏胶
胶合工艺
胶粘剂
下载PDF
职称材料
题名
“J—646”新型光学光敏胶胶合工艺简介
被引量:
1
1
作者
赵嗣华
孙家平
范纪尧
机构
上海照相机总厂
出处
《光学技术》
CAS
CSCD
1991年第5期43-45,共3页
文摘
“J—646”光敏胶具有透光率好,收缩率小,粘接强度适中,耐老化,毒性小和成本低廉等特点。本文简要介绍了该胶的胶合工艺。
关键词
光敏胶
胶合工艺
胶粘剂
Keywords
photosensitive cement, cementing
分类号
TQ436 [化学工程]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
“J—646”新型光学光敏胶胶合工艺简介
赵嗣华
孙家平
范纪尧
《光学技术》
CAS
CSCD
1991
1
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