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静电层层自组装复合磨粒及抛光液的抛光性能研究
被引量:
1
1
作者
姚伟强
马国伟
+3 位作者
金清波
黄亦申
赵彬善
许雪峰
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第6期742-745,780,共5页
利用静电层层自组装原理,通过PDADMAC在聚合物粒子表面改性和吸附不同层数的SiO2磨粒,制备n-SiO2/BGF复合磨粒及其抛光液。分析了交替吸附PDADMAC和SiO2磨粒的BGF微球表面Zeta电位的变化,利用TEM表征了不同层数的n-SiO2/BGF复合磨粒SiO...
利用静电层层自组装原理,通过PDADMAC在聚合物粒子表面改性和吸附不同层数的SiO2磨粒,制备n-SiO2/BGF复合磨粒及其抛光液。分析了交替吸附PDADMAC和SiO2磨粒的BGF微球表面Zeta电位的变化,利用TEM表征了不同层数的n-SiO2/BGF复合磨粒SiO2磨粒的吸附情况。分析了聚合物表面磨粒的吸附层数、游离磨粒浓度、聚合物粒径对复合磨粒抛光液抛光的影响。抛光实验表明:3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液的材料去除率最高,为368.8nm/min;复合磨粒抛光液中的聚合物粒子为1~2μm、游离磨料SiO2的质量分数为5%时,材料去除率取得较大值。经3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液抛光后的硅表面,在10μm×10μm范围内,表面粗糙度从0.3μm降至0.9nm,峰谷值小于10nm,表明复合磨粒抛光液对硅片具有良好的抛光效果。
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关键词
化学机械抛光
抛光液
复合磨粒
聚电解质
硅片
下载PDF
职称材料
脉冲磁场辅助磁性复合磨粒化学机械抛光技术及其加工试验研究
被引量:
2
2
作者
黄亦申
赵彬善
+2 位作者
黄水泉
游红武
许雪峰
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第9期1175-1179,1238,共6页
提出一种脉冲磁场辅助新型磁性复合磨粒化学机械抛光技术。该技术利用磁性聚合物微球与SiO2磨粒组成的复合磨粒抛光液,在脉冲磁场辅助作用下,实现磨粒尺寸对硬质抛光盘微观形貌依赖性小、磨粒易进入抛光区域、材料去除率较高的抛光。设...
提出一种脉冲磁场辅助新型磁性复合磨粒化学机械抛光技术。该技术利用磁性聚合物微球与SiO2磨粒组成的复合磨粒抛光液,在脉冲磁场辅助作用下,实现磨粒尺寸对硬质抛光盘微观形貌依赖性小、磨粒易进入抛光区域、材料去除率较高的抛光。设计了"之"字形的对位式结构电磁铁,模拟计算表明其磁感应强度沿抛光平面分布均匀,磁性微球受到的磁力一致性好。磁性微球在抛光系统中的受力分析表明:磁性微球受磁力作用时有利于复合磨粒从近抛光区进入抛光区,以二体磨损的方式去除加工表面;磁性微球不受磁力作用时,复合磨粒随抛光液的流动而移动,避免大量聚集形成磁链。以表面粗糙度Ra=1.1μm的硬质抛光盘进行硅片抛光试验,施加不同频率和占空比的脉冲磁场前后,硅片的去除率从137 nm/min提高到288 nm/min,频率5 Hz、占空比50%时获得最大值,硅片表面粗糙度由抛光前Ra=405 nm减小到Ra=0.641 nm。
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关键词
化学机械抛光
脉冲磁场
磁性复合磨粒
材料去除率
硅片
下载PDF
职称材料
题名
静电层层自组装复合磨粒及抛光液的抛光性能研究
被引量:
1
1
作者
姚伟强
马国伟
金清波
黄亦申
赵彬善
许雪峰
机构
浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室
出处
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第6期742-745,780,共5页
基金
浙江省自然科学基金资助重点项目(Z1080625)
文摘
利用静电层层自组装原理,通过PDADMAC在聚合物粒子表面改性和吸附不同层数的SiO2磨粒,制备n-SiO2/BGF复合磨粒及其抛光液。分析了交替吸附PDADMAC和SiO2磨粒的BGF微球表面Zeta电位的变化,利用TEM表征了不同层数的n-SiO2/BGF复合磨粒SiO2磨粒的吸附情况。分析了聚合物表面磨粒的吸附层数、游离磨粒浓度、聚合物粒径对复合磨粒抛光液抛光的影响。抛光实验表明:3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液的材料去除率最高,为368.8nm/min;复合磨粒抛光液中的聚合物粒子为1~2μm、游离磨料SiO2的质量分数为5%时,材料去除率取得较大值。经3-SiO2/BGF复合磨粒抛光液抛光后的硅表面,在10μm×10μm范围内,表面粗糙度从0.3μm降至0.9nm,峰谷值小于10nm,表明复合磨粒抛光液对硅片具有良好的抛光效果。
关键词
化学机械抛光
抛光液
复合磨粒
聚电解质
硅片
Keywords
chemical mechanical polishing (CMP)
slurry
composite particle
polyelectrolyte
sili- con
分类号
TH117 [机械工程—机械设计及理论]
下载PDF
职称材料
题名
脉冲磁场辅助磁性复合磨粒化学机械抛光技术及其加工试验研究
被引量:
2
2
作者
黄亦申
赵彬善
黄水泉
游红武
许雪峰
机构
浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部/浙江省重点实验室
徐州徐工随车起重机有限公司
出处
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第9期1175-1179,1238,共6页
基金
浙江省自然科学基金资助重点项目(Z1080625)
文摘
提出一种脉冲磁场辅助新型磁性复合磨粒化学机械抛光技术。该技术利用磁性聚合物微球与SiO2磨粒组成的复合磨粒抛光液,在脉冲磁场辅助作用下,实现磨粒尺寸对硬质抛光盘微观形貌依赖性小、磨粒易进入抛光区域、材料去除率较高的抛光。设计了"之"字形的对位式结构电磁铁,模拟计算表明其磁感应强度沿抛光平面分布均匀,磁性微球受到的磁力一致性好。磁性微球在抛光系统中的受力分析表明:磁性微球受磁力作用时有利于复合磨粒从近抛光区进入抛光区,以二体磨损的方式去除加工表面;磁性微球不受磁力作用时,复合磨粒随抛光液的流动而移动,避免大量聚集形成磁链。以表面粗糙度Ra=1.1μm的硬质抛光盘进行硅片抛光试验,施加不同频率和占空比的脉冲磁场前后,硅片的去除率从137 nm/min提高到288 nm/min,频率5 Hz、占空比50%时获得最大值,硅片表面粗糙度由抛光前Ra=405 nm减小到Ra=0.641 nm。
关键词
化学机械抛光
脉冲磁场
磁性复合磨粒
材料去除率
硅片
Keywords
chemical mechanical polishing
pulse magnetic field
magnetic composite abrasives
material removal rate
silicon wafer
分类号
TB580.692 [理学—声学]
TN305.1 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
静电层层自组装复合磨粒及抛光液的抛光性能研究
姚伟强
马国伟
金清波
黄亦申
赵彬善
许雪峰
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
1
下载PDF
职称材料
2
脉冲磁场辅助磁性复合磨粒化学机械抛光技术及其加工试验研究
黄亦申
赵彬善
黄水泉
游红武
许雪峰
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
2
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职称材料
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