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MEMS光敏BCB硅—硅键合工艺研究 被引量:3
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作者 赵璐冰 徐静 +2 位作者 钟少龙 李绍良 吴亚明 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2014年第8期48-51,共4页
光敏BCB作为粘结介质进行键合工艺实验研究。实验中选用XUS35078负性光敏BCB,提出了优化的光刻工艺参数,得到了所需要的BCB图形层,然后将两硅片在特定的温度与压力条件下完成了BCB键合。测试表明:该光敏BCB具有较小的流动性和较低的塌... 光敏BCB作为粘结介质进行键合工艺实验研究。实验中选用XUS35078负性光敏BCB,提出了优化的光刻工艺参数,得到了所需要的BCB图形层,然后将两硅片在特定的温度与压力条件下完成了BCB键合。测试表明:该光敏BCB具有较小的流动性和较低的塌陷率。键合后的BCB胶厚约为11.6μm,剪切强度为18MPa,He细检漏率小于5.0×10-8atm·cm3/s。此键合工艺可应用于制作需要低温工艺且不能承受高电压的MEMS器件。 展开更多
关键词 光敏BCB 光刻 低温键合 剪切强度 气密性
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基础实验中光速和介质折射率测量方法的研究 被引量:12
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作者 伍雁雄 张姝 +3 位作者 赵璐冰 徐璐 夏顺保 高立模 《大学物理》 北大核心 2004年第10期56-58,共3页
采用一种新型光速测定仪测量光速和介质折射率,对测量方法进行了研究和改进,分析了测量误差的来源.在此基础上,采用精密数字相位计代替示波器测量相位,设计了新的测量方案,并采用最小二乘法进行线性拟合,从而提高了测量精度,其精度达到&... 采用一种新型光速测定仪测量光速和介质折射率,对测量方法进行了研究和改进,分析了测量误差的来源.在此基础上,采用精密数字相位计代替示波器测量相位,设计了新的测量方案,并采用最小二乘法进行线性拟合,从而提高了测量精度,其精度达到±0.1%. 展开更多
关键词 光程差 折射率 数字相位计 李萨如图形 最小二乘法
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HVPE法生长GaN厚膜弯曲的分析
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作者 赵璐冰 于彤军 +3 位作者 陆羽 李俊 杨志坚 张国义 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期164-166,共3页
异质外延生长和降温过程中的失配会引起HVPE厚膜样品的弯曲,较大的弯曲会导致薄膜开裂和剥落。利用高分辨X射线衍射仪(XRD)分析,HVPE生长的不同厚度GaN样品的弯曲。对于同一个样品,X射线出射狭缝分别用1mm的标准狭缝和50μm的小狭缝测量... 异质外延生长和降温过程中的失配会引起HVPE厚膜样品的弯曲,较大的弯曲会导致薄膜开裂和剥落。利用高分辨X射线衍射仪(XRD)分析,HVPE生长的不同厚度GaN样品的弯曲。对于同一个样品,X射线出射狭缝分别用1mm的标准狭缝和50μm的小狭缝测量,发现(0002)面摇摆曲线的半宽有明显变化。通过计算和比较,采用标准狭缝测得的(0002)面摇摆曲线的展宽是由弯曲和位错共同引起的,而弯曲表现得更为显著,小狭缝的展宽主要反应样品位错的信息。通过不同狭缝半宽的测量,得到了不同厚度GaN厚膜样品的曲率和位错密度。 展开更多
关键词 氢化物气相外延 厚膜 弯曲 X射线
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电磁波接收电路的实验设计
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作者 宗卫华 王英 +4 位作者 杨杰 丁鑫 阴珍珍 刘泽龙 赵璐冰 《实验科学与技术》 2012年第4期9-10,84,共3页
设计了一款电磁波接收电路,应用于电磁场与电磁波的教学中。电路原理简单,元器件价格低廉。通过实验可以深入地理解电磁波发射与接收的过程,加强对电磁感应的认识。辐射源采用电磁炉、电吹风等家电,具有辐射频率低、功率小、对人体危害... 设计了一款电磁波接收电路,应用于电磁场与电磁波的教学中。电路原理简单,元器件价格低廉。通过实验可以深入地理解电磁波发射与接收的过程,加强对电磁感应的认识。辐射源采用电磁炉、电吹风等家电,具有辐射频率低、功率小、对人体危害小等优点。 展开更多
关键词 电磁场与电磁波 法拉第电磁感应定律 感应电流 实验设计
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提高人类表现的动态光照明(英文) 被引量:1
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作者 魏伟 阮军 +3 位作者 赵璐冰 童玉珍 张国义 刘扬 《激光生物学报》 CAS 2016年第1期104-116,共13页
讨论了基于LED和荧光灯光源以及有无紫外线光谱的动态光照明的分类和应用。介绍了基于荧光灯的动态光照明历史。并讨论了发光二极管技术应用于动态光照明的原因。综述了动态光照影响人体皮质醇,褪黑素,警觉性,体温和情绪的作用机理。并... 讨论了基于LED和荧光灯光源以及有无紫外线光谱的动态光照明的分类和应用。介绍了基于荧光灯的动态光照明历史。并讨论了发光二极管技术应用于动态光照明的原因。综述了动态光照影响人体皮质醇,褪黑素,警觉性,体温和情绪的作用机理。并介绍紫外线照射的安全标准。提出了一种理想的动态光照明,此种动态光考虑显色指数,色温,光照度,光谱结构和动态变化。 展开更多
关键词 动态光照明 日光 生物节律 情绪 光化学
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Optical Defect in GaN-Based Laser Diodes Detected by Cathodoluminescence 被引量:1
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作者 赵璐冰 吴洁君 +5 位作者 徐科 包魁 杨志坚 潘尧波 胡晓东 张国义 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2008年第12期4342-4344,共3页
GaN-based laser diodes (LDs) with 399 nm wavelength are grown on sapphire substrates by metal organic chemical vapour deposition (MOCVD). Electroluminescence spectra of the fabricated LDs show that the LDs from so... GaN-based laser diodes (LDs) with 399 nm wavelength are grown on sapphire substrates by metal organic chemical vapour deposition (MOCVD). Electroluminescence spectra of the fabricated LDs show that the LDs from some grown wafers failed to emit laser. The SEM and XRD results show the similar surface morphology and interface qualities of multi quantum wells (MQWs) and super-lattices between LDs that succeed and fail to emit laser. However, the cathodoluminescence (CL) measurements reveal a kind of optical defect rather than structural defect in un-emitted LDs. Further depth-dependent CL imaging observation indicates that such optical defects originate from the MQWs to the surface of LDs as a non-irradiative recombination centre that should cause the failure of laser emitting of LDs. 展开更多
关键词 field emission molybdenum dioxide enhancement factor
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Effects of Ⅴ/Ⅲ ratio on species diffusion anisotropy inthe MOCVD growth of non-polar a-plane GaN films
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作者 赵璐冰 于彤军 +2 位作者 吴洁君 杨志坚 张国义 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第1期520-523,共4页
Non-polar a-plane (1120) GaN films have been grown on r-plane (1102) sapphire substrates by metal organic chemical vapour deposition. The influences of V/III ratio on the species diffusion anisotropy of a-plane Ga... Non-polar a-plane (1120) GaN films have been grown on r-plane (1102) sapphire substrates by metal organic chemical vapour deposition. The influences of V/III ratio on the species diffusion anisotropy of a-plane GaN films were investigated by scanning electron microscopy, cathodoluminescence and high-resolution x-ray diffraction measurements. The anisotropy of a-plane GaN films may result from the different migration length of adatoms along two in-plane directions. V/III ratio has an effect on the growth rates of different facets and crystal quality. The stripe feature morphology was obviously observed in the film with a high V/III ratio because of the slow growth rate along the [1100] direction. When the V/III ratio increased from 1000 to 6000, the in-plane crystal quality anisotropy was decreased due to the weakened predominance in migration length of gallium adatoms. 展开更多
关键词 non-polar GaN V/III ratio ANISOTROPY migration length
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Integrated physics package of a chip-scale atomic clock 被引量:3
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作者 李绍良 徐静 +3 位作者 张志强 赵璐冰 龙亮 吴亚明 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第7期470-474,I0003,共6页
The physics package of a chip-scale atomic clock (CSAC) has been successfully realized by integrating vertical cavity surface emitting laser (VCSEL), neutral density (ND) filter, λ/4 wave plate, 87Rb vapor cell... The physics package of a chip-scale atomic clock (CSAC) has been successfully realized by integrating vertical cavity surface emitting laser (VCSEL), neutral density (ND) filter, λ/4 wave plate, 87Rb vapor cell, photodiode (PD), and magnetic coil into a cuboid metal package with a volume of about 2.8 cm3. In this physics package, the critical component, 87Rb vapor cell, is batch-fabricated based on MEMS technology and in-situ chemical reaction method. Pt heater and thermistors are integrated in the physics package. A PTFE pillar is used to support the optical elements in the physics package, in order to reduce the power dissipation. The optical absorption spectrum of 87Rb D1 line and the microwave frequency correction signal are successfully observed while connecting the package with the servo circuit system. Using the above mentioned packaging solution, a CSAC with short-term frequency stability of about 7 × 10^-10τ-1/2 has been successfully achieved, which demonstrates that this physics package would become one promising solution for the CSAC. 展开更多
关键词 chip-scale atomic clock (CSAC) physics package 87Rb vapor cell coherent population trapping(CPT)
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SiC MOSFET功率器件标准研究 被引量:2
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作者 高伟 赵璐冰 《标准科学》 2021年第12期79-84,共6页
本文结合SiC MOSFET国际标准进展,分析了阈值电压漂移、偏压温度不稳定性、体二极管退化测试标准的制定难点;同时,根据国内外产业发展现状、我国技术标准进展,分析了测试设备精度、新型封装、动态可靠性等关键问题与标准制定面临的挑战... 本文结合SiC MOSFET国际标准进展,分析了阈值电压漂移、偏压温度不稳定性、体二极管退化测试标准的制定难点;同时,根据国内外产业发展现状、我国技术标准进展,分析了测试设备精度、新型封装、动态可靠性等关键问题与标准制定面临的挑战,并提出了首先定位团体标准制定的工作机制,以期以技术标准的研制支撑产业的市场化发展。 展开更多
关键词 SiC MOSFET 碳化硅 功率开关器件 团体标准 第三代半导体
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第3代半导体发展概述及我国的机遇、挑战与对策 被引量:3
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作者 郝建群 高伟 +3 位作者 赵璐冰 曹峻松 吕欣 阮军 《新材料产业》 2016年第11期6-13,共8页
第3代半导体材料是指带隙宽度明显大于硅(S i)(1.1e V)和砷化镓(G a A s)(1.4e V)的宽禁带半导体材料。它具备禁带宽度大、击穿电场高、热导率大、电子饱和漂移速率高、抗辐射能力强等优越性能,是固态光源、下一代射频和电力... 第3代半导体材料是指带隙宽度明显大于硅(S i)(1.1e V)和砷化镓(G a A s)(1.4e V)的宽禁带半导体材料。它具备禁带宽度大、击穿电场高、热导率大、电子饱和漂移速率高、抗辐射能力强等优越性能,是固态光源、下一代射频和电力电子器件的“核心”,在半导体照明、消费类电子、5G移动通信、新能源汽车、智能电网、轨道交通等领域有广阔的应用前景,有望突破传统半导体技术的瓶颈,与第1代、第2代半导体技术互补,对节能减排、产业转型升级、催生新的经济增长点发挥重要作用,正在成为全球半导体产业新的战略高地。我国在半导体照明方面已经形成完整的产业链和一定的产业规模,成为全球发展最快的区域,为第3代半导体在其他领域的应用奠定了良好的基础。但我国在电力电子、通讯等领域的研发和产业化与国外差距较大,需要加大研发投入,建立体制机制创新的研发创新和科技服务平台,构建立足地方、带动全国、引领世界的跨学科、跨行业、跨区域的第3代半导体创新价值链,重塑全球半导体产业发展格局。 展开更多
关键词 半导体材料 Ga Si 衬底 三菱电机 电工材料 基片 外延片 射频器件 电子器件 逆变器 半导体照明 LED
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联盟标准CSA 016《LED照明应用接口要求:控制装置分离式、自带散热LED模组的路灯/隧道灯》解读(英文)
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作者 周详 郑成龙 赵璐冰 《China Standardization》 2014年第5期80-83,共4页
With the advantages of long lifetime, high lighting effect and non-pollution, LED lighting has taken a leading role in the lighting sector. LED street and tunnel lights have no unified product interface, so the produc... With the advantages of long lifetime, high lighting effect and non-pollution, LED lighting has taken a leading role in the lighting sector. LED street and tunnel lights have no unified product interface, so the products of different enterprises cannot interchange with each other, restraining the development of the whole industry due to the large-scale production problem. The alliance standard CSA 016-2013 has been approved as a national standard project, paving the way for the orderly development of LED industry. Interpreting the CSA 016 standard, the paper expounds on the technical requirements for interchangeable interface in the optical, mechanical, electrical and thermal aspects. 展开更多
关键词 LED照明 接口要求 CSA 控制设备 路灯 隧道 散热片 街道
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同成分掺镁铌酸锂晶体紫外光致吸收阈值效应的研究 被引量:5
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作者 付博 张国权 +7 位作者 赵璐冰 乔海军 徐庆君 申岩 许京军 孔勇发 孙军 陈绍林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期1531-1534,共4页
研究了同成分掺镁铌酸锂晶体中的紫外光致吸收效应。通过对不同掺Mg浓度铌酸锂晶体的紫外光致吸收系数和双色存储灵敏度的测量,发现同成分掺镁铌酸锂晶体的紫外光致吸收效应具有Mg离子浓度阈值效应。只有当掺Mg摩尔分数大于3.0%时,从近... 研究了同成分掺镁铌酸锂晶体中的紫外光致吸收效应。通过对不同掺Mg浓度铌酸锂晶体的紫外光致吸收系数和双色存储灵敏度的测量,发现同成分掺镁铌酸锂晶体的紫外光致吸收效应具有Mg离子浓度阈值效应。只有当掺Mg摩尔分数大于3.0%时,从近紫外一直延伸到近红外波段的紫外光致吸收效应才显示出来。这一Mg离子浓度阈值效应进一步为双色存储灵敏度的测量结果所证实。该浓度阈值小于掺镁铌酸锂晶体抗光损伤效应的摩尔分数阈值4.6%。这种紫外光致吸收现象可能和掺镁铌酸锂晶体中反位铌NbLi浓度的急剧减少基本消失有关。 展开更多
关键词 非线性光学 浓度阈值 紫外 光致吸收 铌酸锂
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第三代半导体产业发展与趋势展望 被引量:14
13
作者 吴玲 赵璐冰 《科技导报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第14期20-29,共10页
第三代半导体是全球半导体技术研究前沿和新的产业竞争焦点。综述了第三代半导体发展现状、中国对第三代半导体产业的科技支持政策及当前面临的风险和存在的问题。阐述了第三代半导体产业技术创新战略联盟的探索实践,包括推动产学研用... 第三代半导体是全球半导体技术研究前沿和新的产业竞争焦点。综述了第三代半导体发展现状、中国对第三代半导体产业的科技支持政策及当前面临的风险和存在的问题。阐述了第三代半导体产业技术创新战略联盟的探索实践,包括推动产学研用创新联合体对接国家重大项目、推动国家级公共平台和产业创新生态建设、制定团体标准并推动相关检测平台建设、通过创新创业服务促进大中小企业融通发展、精准深度国际合作等。针对当前国际形势及中国第三代半导体产业面临的机遇和挑战,提出5点建议:尽快启动国家2030重大项目,通过国家第三代半导体技术创新中心形成合力,瞄准国家重大需求,探索新型举国体制;夯实支撑产业链的公共研发与服务等基础平台;加速推动产业生态环境的完善;组织实施应用示范工程,充分发挥需求端对产业的带动作用;构建科技资本网链,实现国家信用对研发链、产业链和资本链的拉动。 展开更多
关键词 第三代半导体产业 氮化镓 碳化硅 产业生态
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Influence of initial growth conditions and Mg-surfactant on the quality of GaN film grown by MOVPE 被引量:2
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作者 曹峻松 吕欣 +2 位作者 赵璐冰 曲爽 高伟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第2期34-37,共4页
The initial growth conditions of a 100 nm thick GaN layer and Mg-surfactant on the quality of the GaN epilayer grown on a 6H-SiC substrate by metal-organic vapor phase epitaxy have been investigated in this research. ... The initial growth conditions of a 100 nm thick GaN layer and Mg-surfactant on the quality of the GaN epilayer grown on a 6H-SiC substrate by metal-organic vapor phase epitaxy have been investigated in this research. Experimental results have shown that a high V/III ratio and the initially low growth rate of the GaN layer are favorable for two-dimension growth and surface morphology of GaN and the formation of a smoother growth surface. Mg-surfactant occurring during GaN growth can reduce the dislocations density of the GaN epilayer but increase the surface RMS, which are attributed to the change of growth mode. 展开更多
关键词 metalorganic vapor phase epitaxy gallium nitride high resolution X-ray diffraction
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第三代半导体产业发展与趋势展望
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作者 吴玲 赵璐冰 《新华文摘》 2021年第21期140-145,共6页
第三代半导体材料是指氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)等带隙宽度明显大于硅(Si,1.1~1.3 V)和砷化镓(GaAs.1.4 V)的宽禁带半导体材料,具备击穿电场高、热导率大、电子饱和漂移速率高、抗辐射能力强等优越性能,以宽禁带半导体材料为基础制备的... 第三代半导体材料是指氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)等带隙宽度明显大于硅(Si,1.1~1.3 V)和砷化镓(GaAs.1.4 V)的宽禁带半导体材料,具备击穿电场高、热导率大、电子饱和漂移速率高、抗辐射能力强等优越性能,以宽禁带半导体材料为基础制备的电子器件是支撑下一代移动通信、新能源汽车、高速列车、能源互联网、国防军工等产业自主创新发展和转型升级的关键核心器件,在国家安全(打破战略平衡的战略物资)、国家经济安全(能源、交通、通信)和传统产业转型升级(低碳、智能)方面均起到核心支撑作用。 展开更多
关键词 国家经济安全 国防军工 战略平衡 转型升级 宽禁带半导体材料 抗辐射能力 新能源汽车 能源互联网
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