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化学镀铜溶液稳定性和沉铜速率的研究 被引量:15
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作者 钟丽萍 赵转青 黄逢春 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2001年第6期26-28,共3页
采用单因素试验法研究了影响化学镀铜镀速和溶液稳定性的各因素,根据实验确定了适宜的 化学镀铜液配方及工艺规范。优选出的镀液稳定性高,沉铜速率达2.5~3.0 μm/20 min。 镀层延展性好,平整、外观良好,可用于印制线路板的孔金属... 采用单因素试验法研究了影响化学镀铜镀速和溶液稳定性的各因素,根据实验确定了适宜的 化学镀铜液配方及工艺规范。优选出的镀液稳定性高,沉铜速率达2.5~3.0 μm/20 min。 镀层延展性好,平整、外观良好,可用于印制线路板的孔金属化及其他塑料电镀。 展开更多
关键词 化学镀铜 镀速 稳定性 镀液 单因素试验法 电镀
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