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基于MEMS技术的原子气室封装工艺 被引量:2
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作者 李云超 党峰 +2 位作者 辛红强 李璐 杜剑英 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2023年第2期22-26,共5页
在基于MEMS技术原子气室的制备工艺中,难度较大的是碱金属的填充技术及阳极键合封装工艺,该工艺流程直接影响原子气室的质量。为进一步简化原子气室的制备工艺,设计了“双腔式”原子气室结构,采用先阳极键合,再化学反应的方法实现了原... 在基于MEMS技术原子气室的制备工艺中,难度较大的是碱金属的填充技术及阳极键合封装工艺,该工艺流程直接影响原子气室的质量。为进一步简化原子气室的制备工艺,设计了“双腔式”原子气室结构,采用先阳极键合,再化学反应的方法实现了原子气室批量化的封装。单个原子气室体积为6 mm×4 mm×2.5 mm,经氦气细检漏气率平均达到5×10^(-8)Pa·m^(3)·s^(-1),通过搭建实验平台,测得了不同温度下的原子气室D1线吸收谱线图,实验结果表明原子气室封装成功。 展开更多
关键词 芯片原子钟 原子气室 MEMS 阳极键合 吸收谱线
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