面向特征建模方式的微器件表面微加工掩膜推导方法

针对微机电系统传统设计方法中,微器件的结构设计过程不够直观,三维模型的更改需要根据掩膜的更改来推导完成。提出了一种算法以实现由微器件三维特征模型自动推导出掩膜版图。在完成对微器件三维特征模型工艺分层之后,每一工艺层分别包含各自的特征结构,再根据各个工艺层的结构信息和材料信息,利用提出的掩膜推导算法,在沿微器件加工方向的正方向完成掩膜的逐层推导。并在VC环境下基于Open CASCADE三维内核开发相关应用程序,来完成对掩膜推导算法的验证。通过实例验证表明,此算法具有可行性,可以实现掩膜的自动生成,较传统设计方法更加直观、高效。