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题名半导体晶圆的污染杂质及清洗技术分析
被引量:3
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作者
王本义
谷德鑫
邱书媛
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机构
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
沈阳隆泰机械制造有限公司
沈阳航新非标设备制造有限公司
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出处
《中国设备工程》
2021年第9期215-216,共2页
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文摘
半导体晶圆是当前常用的一种硅晶片材料,主要应用于制作硅半导体电路,是将高纯度多晶硅溶解后,掺入硅晶体晶种,拉出形成圆柱形单晶硅。此类材料在电路中有着非常广泛的应用,但其中可能会存在一些污染杂质,导致电路质量受到影响,也可能造成比较严重的材料损失。本文对半导体晶圆的主要污染杂质进行分析,明确常用的清洗技术,采取有效方法进行处理,从而提高半导体晶圆的质量,并确保其应用效果。
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关键词
半导体晶圆
污染杂质
清洗技术
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分类号
TN305.97
[电子电信—物理电子学]
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