六方氮化硼的振动光谱与立方氮化硼的合成

以X射线衍射分析作参比,分析了高度三维有序到近乱层结构的9种六方氮化硼的红外和拉曼光谱、并进行了立方氮化硼的高温高压合成。光谱分析表明,随着晶性的降低,六方氮化硼的低频红外吸收峰的位置及拉曼谱线等基本振动光谱发生明显的特征性的变化,并伴随出现各自不同的次级光谱结构。合成结果表明,在触媒作用下,立方氮化硼的形成需要六方氮化硼原料有一定的结晶度,但立方氮化硼合成效果与六方氮化硼结晶度并非是简单的单调关系。对振动光谱和合成试验的结果进行了讨论。

多晶金刚石烧结中晶粒表面石墨化的实验研究

利用X射线微区衍射,X射线光电子谱(XPS)及激光拉曼光谱等分析,对高温高压下以金刚石微粉为原料的多晶金刚石烧结过程中,金刚石晶粒表面石墨化现象进行了考察。结果表明,虽经历了烧结过程,但在没有掺杂剂作用的区域内,没有发现金刚石晶粒表面的石墨化。晶粒表面石墨化的高峰期,处于掺杂剂刚开始液化,但尚未饱合充填金刚石晶粒间空隙的烧结初期阶段,随着液相掺杂剂的饱和充填和作用,金刚石晶粒表面的石墨消失,并最终完成多晶金刚石的烧结。

Si:H薄膜的微结构及输运性质

用扫描电镜观察Si:H薄膜的剖面,发现用平板电极沉积的Si:H薄膜呈柱状结构,而用环形电极沉积的膜具有层状结构。喇曼谱和X射线谱表明,这两种结构对应于微晶相的存在。测定薄膜的暗电导与温度间的关系,发现薄膜的电导激话能为各向异性。联系耦合方式讨论了薄膜的生长机制。