采用射频磁控溅射方法制备非晶 Dy Fe Co磁光薄膜。样品的克尔回线、转矩曲线的测试显示 ,薄膜具有优良的磁和磁光性能。退火研究表明 ,随着退火时间的增加 ,矫顽力下降 ,垂直磁各向异性能减少 ,但克尔角变化不明显 ,其内在机制与薄膜...采用射频磁控溅射方法制备非晶 Dy Fe Co磁光薄膜。样品的克尔回线、转矩曲线的测试显示 ,薄膜具有优良的磁和磁光性能。退火研究表明 ,随着退火时间的增加 ,矫顽力下降 ,垂直磁各向异性能减少 ,但克尔角变化不明显 ,其内在机制与薄膜中的微缺陷和应力的弛豫过程有关。展开更多
在不同的温度下烧结制备 Ni O靶 ,用射频磁控溅射法淀积 Ni O/ Ni81 Fe1 9双层膜 ,研究了不同的温度烧结 Ni O靶对 Ni O/ Ni Fe双层膜特性的影响 ,结果表明 ,使用不同的烧结温度制备的 Ni O靶溅射所得的 Ni O膜中 Ni的化学价态及其含量...在不同的温度下烧结制备 Ni O靶 ,用射频磁控溅射法淀积 Ni O/ Ni81 Fe1 9双层膜 ,研究了不同的温度烧结 Ni O靶对 Ni O/ Ni Fe双层膜特性的影响 ,结果表明 ,使用不同的烧结温度制备的 Ni O靶溅射所得的 Ni O膜中 Ni的化学价态及其含量不同 ,进而影响 Ni O/ Ni81 Fe1展开更多
文摘在不同的温度下烧结制备 Ni O靶 ,用射频磁控溅射法淀积 Ni O/ Ni81 Fe1 9双层膜 ,研究了不同的温度烧结 Ni O靶对 Ni O/ Ni Fe双层膜特性的影响 ,结果表明 ,使用不同的烧结温度制备的 Ni O靶溅射所得的 Ni O膜中 Ni的化学价态及其含量不同 ,进而影响 Ni O/ Ni81 Fe1